| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-12页 |
| ·研究背景 | 第10页 |
| ·研究构思 | 第10-11页 |
| ·研究内容 | 第11-12页 |
| 第二章 文献综述 | 第12-32页 |
| ·ZnO材料概述 | 第12-23页 |
| ·ZnO的主要形态 | 第12-17页 |
| ·ZnO的晶体结构及基本性质 | 第17-19页 |
| ·ZnO的缺陷与掺杂 | 第19-21页 |
| ·ZnO的电学性质 | 第21页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第21-22页 |
| ·ZnO的应用 | 第22-23页 |
| ·非极性ZnO薄膜的研究进展 | 第23-28页 |
| ·非极性ZnO薄膜的制备及基础研究 | 第24-26页 |
| ·非极性ZnO薄膜的光学特性 | 第26-28页 |
| ·非极性ZnO薄膜的电学特性 | 第28页 |
| ·非极性ZnMgO薄膜的研究进展 | 第28-32页 |
| ·a-ZnMgO薄膜的研究进展 | 第28-29页 |
| ·m-ZnMgO薄膜的研究进展 | 第29-32页 |
| 第三章 实验方法及材料性能表征 | 第32-38页 |
| ·金属有机化学气相沉积(MOCVD)生长系统简介 | 第32-35页 |
| ·MOCVD的基本原理 | 第32-34页 |
| ·本文采用的MOCVD系统 | 第34-35页 |
| ·MOCVD生长ZnO基薄膜 | 第35-37页 |
| ·有机源的选择及流量计算 | 第35-36页 |
| ·薄膜的沉积 | 第36-37页 |
| ·ZnO基薄膜的性能表征 | 第37-38页 |
| ·薄膜的结构表征 | 第37页 |
| ·薄膜的形貌表征 | 第37页 |
| ·薄膜的电学表征 | 第37页 |
| ·薄膜的光学表征 | 第37页 |
| ·薄膜的成分表征 | 第37-38页 |
| 第四章 极性ZnO及ZnMgO薄膜的制备及性能研究 | 第38-46页 |
| ·极性ZnO薄膜的制备及性能研究 | 第38-40页 |
| ·极性ZnMgO薄膜的制备及性能研究 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-46页 |
| 第五章 非极性ZnO薄膜的制备及性能研究 | 第46-56页 |
| ·MgO衬底的选择 | 第46-48页 |
| ·不同Zn/O流量比对ZnO薄膜性能的影响 | 第48-51页 |
| ·ZnO薄膜退火处理 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第六章 非极性ZnMgO薄膜的制备及性能研究 | 第56-68页 |
| ·不同生长温度对ZnMgO薄膜的影响 | 第56-61页 |
| ·不同生长温度下生长ZnMgO薄膜 | 第56-59页 |
| ·保温处理对不同生长温度下生长的ZnMgO薄膜性能的影响 | 第59-61页 |
| ·不同Zn/Mg流量比对ZnMgO薄膜性能的影响 | 第61-62页 |
| ·引入缓冲层生长ZnMgO薄膜 | 第62-65页 |
| ·MgO(100)衬底上生长非极性ZnO基薄膜面临的主要问题及分析 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第七章 结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-78页 |
| 致谢 | 第78-80页 |
| 个人简历 | 第80-82页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果 | 第82页 |
