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高深宽比微纳结构模拟、加工及应用

摘要第1-7页
Abstract第7-13页
第一章 绪论第13-27页
 第一节 微机电系统简介第13-15页
 第二节 高深宽比微纳结构第15-23页
     ·高深宽比微结构第15-21页
     ·高深宽比纳结构第21-22页
     ·加工工艺的局限性第22-23页
 第三节 论文研究内容与安排第23-27页
     ·论文研究内容第23-26页
     ·论文安排第26-27页
第二章 深反应离子刻蚀工艺模拟第27-52页
 第一节 深反应离子刻蚀工艺模型第27-32页
     ·Bosch工艺第27-29页
     ·刻蚀模型第29-31页
     ·钝化模型第31-32页
 第二节 基于Voxel的工艺模拟第32-42页
     ·基于三维数学形态学的工艺建模第32-35页
     ·基于Voxel的DRIE工艺模拟实现第35-40页
     ·DRIE工艺模拟结果第40-42页
 第三节 纳米尺度下深反应离子刻蚀工艺模拟第42-51页
     ·干涉光刻模拟第42-44页
     ·纳米尺度下深反应离子刻蚀模型第44-47页
     ·纳米尺度下深反应离子刻蚀模拟结果第47-51页
 第四节 小结第51-52页
第三章 基于深反应离子刻蚀工艺的高深宽比硅结构加工第52-78页
 第一节 深反应离子刻蚀第52-55页
     ·基于Bosch技术的深反应离子刻蚀第52-53页
     ·深反应离子刻蚀应用第53-55页
 第二节 基于深反应离子刻蚀工艺的微结构加工第55-67页
     ·微米沟槽加工第55-59页
     ·通孔加工第59-62页
     ·纳米结构加工第62-67页
 第三节 基于深反应离子刻蚀工艺的微纳米复合结构加工第67-77页
     ·实验设计第68-69页
     ·微纳复合结构加工第69-75页
     ·黑硅特性测试第75-77页
 第四节 小结第77-78页
第四章 基于光电化学刻蚀工艺的高深宽比硅结构加工第78-101页
 第一节 电化学刻蚀第78-81页
     ·电化学刻蚀I-V特性第78-79页
     ·刻蚀孔分类第79-80页
     ·化学反应第80-81页
 第二节 光电化学刻蚀第81-84页
     ·光电化学刻蚀简介第81-82页
     ·光电化学刻蚀装置第82-83页
     ·光电化学刻蚀基本工艺流程第83-84页
 第三节 高深宽比通孔加工第84-90页
     ·刻蚀初始图形转移第84-85页
     ·通孔刻蚀第85-89页
     ·通孔形状控制第89-90页
 第四节 高深宽比栅结构加工第90-96页
     ·刻蚀初始图形转移第90-91页
     ·高深宽比栅刻蚀第91-96页
 第五节 高深宽比复杂图形加工第96-100页
     ·刻蚀初始图形转移第96-99页
     ·高深宽比复杂结构刻蚀第99-100页
 第六节 小结第100-101页
第五章 基于真空除气电镀工艺的高深宽比金属结构加工第101-112页
 第一节 金属结构加工第101-102页
 第二节 真空除气电镀第102-105页
     ·微加工中的电镀工艺第102-103页
     ·真空除气电镀第103-105页
 第三节 高深宽比金属结构加工第105-111页
     ·高深宽比柱状金属结构加工第105-108页
     ·高深宽比栅状金属结构加工第108-109页
     ·高深宽比复杂形状金属结构加工第109-111页
 第四节 小结第111-112页
第六章 基于高深宽比电极结构的三维锌空气微电池第112-127页
 第一节 三维微型电池第112-118页
     ·背景和动机第112-114页
     ·三维电极结构第114-115页
     ·三维结构的特点第115-118页
 第二节 三维锌空气微电池第118-126页
     ·锌空气电池第118-120页
     ·三维锌空气微电池设计第120-122页
     ·三维锌空气微电池加工与封装第122-126页
 第三节 小结第126-127页
第七章 结论与展望第127-129页
 第一节 结论第127-128页
 第二节 展望第128-129页
参考文献第129-137页
致谢第137-138页
个人简历、在学期间发表的学术论文与科研工作第138-139页

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