| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| ·引言 | 第10-12页 |
| ·稀磁半导体简介 | 第12-18页 |
| ·稀磁半导体的概念 | 第12页 |
| ·稀磁半导体的分类 | 第12-13页 |
| ·稀磁半导体的性质 | 第13-14页 |
| ·稀磁半导体的磁性来源 | 第14-16页 |
| ·稀磁半导体材料的制备方法 | 第16-18页 |
| ·AlN的结构及基本性质 | 第18-20页 |
| ·AlN的晶体结构 | 第18-19页 |
| ·AlN的基本性质 | 第19-20页 |
| ·AlN基稀磁半导体的研究进展 | 第20-25页 |
| ·AlN基稀磁半导体的理论研究 | 第20-21页 |
| ·AlN基稀磁半导体的实验研究 | 第21-25页 |
| ·AlN基稀磁半导体研究中还尚待解决的问题 | 第25页 |
| ·本文主要研究工作 | 第25-26页 |
| 第二章 实验原理及实验过程 | 第26-36页 |
| ·射频磁控溅射基本原理 | 第26-27页 |
| ·磁控溅射基本原理 | 第26-27页 |
| ·直流溅射和射频溅射 | 第27页 |
| ·实验设备及操作步骤 | 第27-31页 |
| ·实验设备 | 第27-28页 |
| ·实验步骤 | 第28-31页 |
| ·实验注意事项 | 第31页 |
| ·样品测试及表征方法 | 第31-33页 |
| ·X射线荧光光谱仪(XRF) | 第31-32页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第32页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第32页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第32-33页 |
| ·X射线光电子能谱仪(XPS) | 第33页 |
| ·实验准备及实验过程 | 第33-35页 |
| ·基片的处理过程 | 第33-34页 |
| ·靶材的处理 | 第34页 |
| ·具体实验过程 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 掺Ni的AlN薄膜稀磁半导体的制备及磁性研究 | 第36-45页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·Ni掺杂AlN薄膜各样品掺杂量测试 | 第36-38页 |
| ·Ni掺杂AlN薄膜样品结构分析 | 第38页 |
| ·Ni掺杂AlN薄膜样品表面形貌 | 第38-39页 |
| ·Ni掺杂AlN薄膜样品磁性能测试 | 第39-40页 |
| ·Ni掺杂AlN基稀磁半导体薄膜磁性来源探究 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 非磁性元素Mg掺杂AlN基稀磁半导体薄膜的制备及磁性研究 | 第45-55页 |
| ·引言 | 第45-46页 |
| ·Mg掺杂AlN薄膜各样品掺杂量测试 | 第46-47页 |
| ·Mg掺杂AlN薄膜样品结构分析 | 第47-48页 |
| ·Mg掺杂AlN薄膜样品表面形貌 | 第48-49页 |
| ·Mg掺杂AlN薄膜样品磁性能测试 | 第49-50页 |
| ·Mg掺杂AlN基稀磁半导体薄膜磁性来源探究 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 结论与展望 | 第55-57页 |
| ·结论 | 第55页 |
| ·磁性元素Ni掺杂AlN薄膜 | 第55页 |
| ·非磁性元素Mg掺杂AlN薄膜 | 第55页 |
| ·问题和展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 附录 研究生期间发表的学术论文 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63页 |