| 目录 | 第1-4页 |
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-25页 |
| ·微机电系统与纳机电系统 | 第7-8页 |
| ·微机电系统 | 第7页 |
| ·纳机电系统 | 第7-8页 |
| ·NEMS谐振器的发展 | 第8-12页 |
| ·MEMS谐振器 | 第8-10页 |
| ·典型NEMS谐振器 | 第10-12页 |
| ·NEMS谐振器与硅纳米线的制造技术 | 第12-17页 |
| ·利用SPL(scanning probe lithography)制作纳米线 | 第13-14页 |
| ·利用特殊沟道结构的侧蚀方法 | 第14-15页 |
| ·利用侧壁掩膜(sidewall masking)技术 | 第15-16页 |
| ·利用自限制氧化工艺制作纳米线 | 第16-17页 |
| ·硅纳米线的特性研究 | 第17-22页 |
| ·实验研究 | 第18-20页 |
| ·理论分析 | 第20-22页 |
| ·本论文的主要内容及意义 | 第22-23页 |
| 第一章参考文献 | 第23-25页 |
| 第二章 分子动力学方法 | 第25-36页 |
| ·分子动力学方程及数值求解 | 第25-29页 |
| ·体系的运动方程 | 第25-26页 |
| ·数值求解方法 | 第26-29页 |
| ·多体系统的基本概念 | 第29-31页 |
| ·分子动力学元胞 | 第29页 |
| ·元胞的周期性边界条件 | 第29-30页 |
| ·不同分子动力学元胞内粒子间的相互作用 | 第30-31页 |
| ·原子间的势 | 第31-34页 |
| ·对势 | 第32页 |
| ·基于有效介质方法的作用势 | 第32-33页 |
| ·共价键势 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第二章参考文献 | 第35-36页 |
| 第三章 硅纳米线的机械特性研究 | 第36-62页 |
| ·应用于硅纳米线的模型建立 | 第36-41页 |
| ·势函数的选取 | 第36-37页 |
| ·硅纳米线的结构模型 | 第37-40页 |
| ·边界条件设置 | 第40页 |
| ·绝热系统与等温系统的选择 | 第40页 |
| ·时间步长 | 第40-41页 |
| ·弹性模量的计算 | 第41-45页 |
| ·体模量 | 第41-42页 |
| ·切模量 | 第42-44页 |
| ·杨氏摸量 | 第44-45页 |
| ·尺度效应的模拟与分析 | 第45-50页 |
| ·温度对硅纳米线弹性模量的影响 | 第50-53页 |
| ·表面原子结构对弹性摸量的影响 | 第53-61页 |
| ·具有{001}终止面的方柱形纳米线的表面再构 | 第54-56页 |
| ·具有{111}终止面的三角柱形纳米线的表面再构 | 第56-60页 |
| ·方柱形与三角柱形硅纳米线对比 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第三章 参考文献 | 第62-64页 |
| 第四章 硅纳米线设计与制造工艺 | 第64-78页 |
| ·基本工艺流程设计 | 第64-67页 |
| ·工艺版图设计 | 第67-69页 |
| ·硅纳米线制作过程与结果 | 第69-76页 |
| ·腐蚀观测图形 | 第69-71页 |
| ·腐蚀时间的控制 | 第71-75页 |
| ·硅纳米线的SEM表征 | 第75-76页 |
| ·工艺中存在的问题 | 第76-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第五章 总结与展望 | 第78-80页 |
| ·本论文的工作总结 | 第78-79页 |
| ·一些展望 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 个人简历 | 第81页 |
| 硕士期间发表文章 | 第81页 |