纳米尺度下光学邻近校正的预处理与后验证研究
| 致谢 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 插图 | 第10-12页 |
| 表格 | 第12-13页 |
| 缩写、符号清单、术语表 | 第13-14页 |
| 目次 | 第14-16页 |
| 1 绪论 | 第16-29页 |
| ·引言 | 第16-17页 |
| ·纳米尺度光刻工艺简介 | 第17-20页 |
| ·现状和挑战 | 第17-18页 |
| ·波长193纳米光刻工艺流程 | 第18-20页 |
| ·光学邻近效应 | 第20-21页 |
| ·分辨率增强技术 | 第21-28页 |
| ·掩模和光源等工艺手段 | 第22-23页 |
| ·光学邻近校正 | 第23-26页 |
| ·光学邻近校正的预处理后验证 | 第26-27页 |
| ·EUV技术的不足 | 第27-28页 |
| ·论文内容安排和创新点 | 第28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 2 亚分辨率辅助图形技术及其实现 | 第29-43页 |
| ·分辨率辅助图形原理 | 第29-32页 |
| ·插入亚分辨率辅助图形流程 | 第32-34页 |
| ·插入亚分辨率辅助图形的实现流程 | 第32-34页 |
| ·传统基于规则的亚分辨率辅助图形插入技术 | 第34-35页 |
| ·用测试图形优化配方的算法 | 第35-37页 |
| ·优化算法实验 | 第37-41页 |
| ·65纳米制程下的预处理技术验证 | 第37-39页 |
| ·45纳米制程下的预处理技术验证 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 3 热点检测技术及基于切分的热点检测实现 | 第43-50页 |
| ·热点检测技术背景 | 第43页 |
| ·热点检测技术方法 | 第43-45页 |
| ·基于切分的机器学习热点检测流程 | 第45页 |
| ·基于切分的机器学习热点检测实现 | 第45-47页 |
| ·支持向量机简介 | 第47-48页 |
| ·热点检测实验 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 4 结束语 | 第50-54页 |
| ·论文总结 | 第50页 |
| ·后续研究展望 | 第50-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 索引 | 第60-61页 |
| 作者简历 | 第61-62页 |
| 发表文章目录 | 第62页 |
