LIGA技术高深宽比研究
| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| 1．1 LIGA技术发展概况 | 第8-9页 |
| 1．2 LIGA技术工艺过程 | 第9-10页 |
| 1．3 LIGA技术的优点 | 第10页 |
| 1．4 LIGA技术高深宽比的影响因素 | 第10-12页 |
| 1．4．1 高深宽比的发展现状 | 第10-11页 |
| 1．4．2 影响因素 | 第11-12页 |
| 1．5 本文研究内容 | 第12-14页 |
| 第2章 掩模结构和性能 | 第14-24页 |
| 2．1 LIGA技术掩模简介 | 第14-15页 |
| 2．2 掩模性能对高深宽比的影响 | 第15页 |
| 2．3 3B1束线上LIGA掩模的设计研究 | 第15-23页 |
| 2．3．1 3B1光束线能谱 | 第16页 |
| 2．3．2 掩模设计 | 第16-17页 |
| 2．3．3 专用光掩模 | 第17-20页 |
| 2．3．4 兼用光掩模 | 第20-23页 |
| 2．4 本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 光谱和光强 | 第24-31页 |
| 3．1 同步辐射光源简介 | 第24-25页 |
| 3．2 光谱和光强对高深宽比的影响 | 第25-26页 |
| 3．3 光谱和光强的优化 | 第26-30页 |
| 3．3．1 光谱的选择 | 第27-29页 |
| 3．3．2 光强的优化 | 第29页 |
| 3．3．3 补充 | 第29-30页 |
| 3．4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第4章 PMMA光刻胶 | 第31-36页 |
| 4．1 光刻胶简介 | 第31页 |
| 4．2 光刻胶性能对高深宽比的影响 | 第31-32页 |
| 4．3 PMMA光刻胶的制备 | 第32-34页 |
| 4．4 光刻胶性能的控制和改善 | 第34-35页 |
| 4．5 本章小结 | 第35-36页 |
| 第5章 深度电铸 | 第36-46页 |
| 5．1 电铸技术简介 | 第36-39页 |
| 5．1．1 电化学原理 | 第36-37页 |
| 5．1．2 电铸材料和电铸液 | 第37-39页 |
| 5．2 电铸对高深宽比的影响 | 第39-40页 |
| 5．3 电铸工艺的优化 | 第40-44页 |
| 5．3．1 气孔问题的解决 | 第40-42页 |
| 5．3．2 应力问题的处理 | 第42-43页 |
| 5．3．3 镀层不均的改善 | 第43-44页 |
| 5．3．4 电铸铜工艺的进展 | 第44页 |
| 5．4 本章小结 | 第44-45页 |
| 5．5 下一步研究的设想 | 第45-46页 |
| 第6章 高深宽比技术的应用 | 第46-56页 |
| 6．1 微推进器关键部件的制备 | 第46-48页 |
| 6．1．1 微推进器原理 | 第46-47页 |
| 6．1．2 实验和结果 | 第47-48页 |
| 6．2 正电子慢化体的制备 | 第48-49页 |
| 6．2．1 实验研究 | 第48-49页 |
| 6．2．2 实验结果 | 第49页 |
| 6．3 不锈钢器件的制备 | 第49-52页 |
| 6．3．1 LIGA技术制备工具电极 | 第50页 |
| 6．3．2 微细电火花加工及工艺优化 | 第50-52页 |
| 6．3．3 结果与讨论 | 第52页 |
| 6．4 过滤介质的制备 | 第52-55页 |
| 6．4．1 实验研究 | 第53页 |
| 6．4．2 结果与讨论 | 第53-55页 |
| 6．5 本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
