首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--微电子学、集成电路(IC)论文--一般性问题论文--设计论文

纳米工艺下基于加固设计的抗辐射电路研究

致谢第7-8页
摘要第8-9页
ABSTRACT第9页
第一章 引言第14-21页
    1.1 课题研究背景及意义第14-17页
    1.2 课题研究现状第17-19页
    1.3 课题来源第19页
    1.4 本课题主要研究内容第19页
    1.5 论文组织结构第19-21页
第二章 相关背景知识介绍第21-36页
    2.1 空间辐射环境简介第21-23页
        2.1.1 银河宇宙射线第21-22页
        2.1.2 太阳粒子事件第22页
        2.1.3 地磁捕获辐射第22-23页
    2.2 辐射效应介绍第23-24页
    2.3 单粒子效应第24-32页
        2.3.1 单粒子的产生机制第24-26页
        2.3.2 单粒子分类第26-27页
        2.3.3 国内外研究现状第27-28页
        2.3.4 单粒子效应模拟试验设备第28-29页
        2.3.5 单粒子效应建模第29-32页
    2.4 EDA仿真工具第32-35页
        2.4.1 Hspice第32-34页
        2.4.2 ISE-TCAD第34页
        2.4.3 Cadence第34-35页
    2.5 本章小结第35-36页
第三章 抗辐射加固技术研究第36-44页
    3.1 相关加固技术介绍第36-39页
        3.1.1 抗辐射加固设计第36页
        3.1.2 标准静态锁存器第36-37页
        3.1.3 C单元的工作原理第37页
        3.1.4 不同加固方案第37-39页
    3.2 不同加固结构分析第39-43页
        3.2.1 三模冗余加固结构第39-40页
        3.2.2 采用C单元和冗余的反馈回路加固结构第40-41页
        3.2.3 基于施密特触发器的方案第41页
        3.2.4 双模互锁单元结构第41-42页
        3.2.5 通过C单元组合的冗余反馈结构第42-43页
    3.3 本章小结第43-44页
第四章 抗辐射自恢复容SEU锁存器设计第44-52页
    4.1 结构简介第44页
    4.2 本课题提出加固结构第44-51页
        4.2.1 结构分析第44-46页
        4.2.2 SEU免疫性分析第46页
        4.2.3 仿真验证第46-48页
        4.2.4 性能分析比较第48-51页
    4.3 本章小结第51-52页
第五章 总结和展望第52-54页
    5.1 全文总结第52页
    5.2 展望第52-54页
参考文献第54-57页
攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况第57页

论文共57页,点击 下载论文
上一篇:双层异质结结构的有机发光场效应晶体管的制备和性能研究
下一篇:三维集成电路绑定前硅通孔测试技术研究