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微组装关键工艺技术研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-10页
第一章 绪论第10-15页
   ·前言第10-11页
   ·研究范围及最终目标第11-12页
     ·研究范围第11-12页
     ·研究目标及成果形式第12页
   ·课题的实用价值和理论意义第12-13页
   ·微组装工艺技术概况第13-15页
第二章 粘接/烧结工艺技术研究第15-19页
   ·基板粘接/烧结工艺技术分析第15-16页
     ·基板粘接/烧结工艺简介第15页
     ·基板粘接/烧结工艺要求第15页
     ·基板粘接/烧结工艺重点第15-16页
   ·基板粘接/烧结工艺流程设计及重点工艺研究第16-18页
     ·基板的准备第16页
     ·基板清洗(重点工艺)第16-17页
     ·腔体的准备和清洗第17页
     ·焊料/导电胶的准备(重点工艺)第17-18页
     ·装夹第18页
     ·焊料烧结/导电胶固化第18页
     ·清理、检验第18页
   ·本章小结第18-19页
第三章 芯片粘接/共晶工艺技术研究第19-41页
   ·芯片粘接工艺技术分析第19-24页
     ·芯片粘接工艺简介第19页
     ·芯片粘接原理第19-20页
     ·影响芯片粘接的关键因素第20-23页
     ·芯片粘接工艺的优缺点第23-24页
   ·芯片共晶工艺技术分析第24-27页
     ·芯片共晶工艺简介第24页
     ·芯片共晶原理第24-25页
     ·影响芯片共晶的关键因素第25-26页
     ·芯片共晶工艺的优缺点第26-27页
   ·芯片粘接工艺与共晶工艺的比较第27-28页
     ·粘接和共晶材料电热机械性能比较第27页
     ·芯片粘接工艺与共晶工艺适用范围第27页
     ·本课题芯片互连工艺的选择第27-28页
   ·芯片互连工艺失效模式、不良现象分析及解决方法第28-31页
     ·失效模式分析第28-30页
     ·不良原因及相应措施第30-31页
   ·芯片共晶质量的检验内容及技术要求第31-32页
     ·目检内容及技术要求第31页
     ·剪切力检测第31页
     ·空洞率检测第31-32页
   ·芯片共晶工艺开发及实验第32-36页
     ·芯片共晶要求第32页
     ·开发所用设备Westbond7367E 镊子共晶机参数调节设置第32-33页
     ·实验情况第33-36页
     ·实验结果达标情况第36页
   ·芯片共晶工艺流程设计第36-39页
     ·设备、材料与工具的准备第36页
     ·陶瓷基板等离子清洗第36-37页
     ·载体清洗第37页
     ·合金焊料准备第37页
     ·载体、陶瓷基板加热第37页
     ·共晶第37-39页
     ·检验第39页
   ·本章小结第39-41页
第四章 金丝键合工艺技术研究第41-69页
   ·金丝键合工艺技术分析第41-54页
     ·金丝键合工艺简介第41-51页
     ·金丝键合工艺原理第51-52页
     ·影响金丝键合质量的关键因素第52-54页
   ·金丝键合的失效模式、不良现象及解决方法第54-58页
     ·失效模式及解决方法第54-56页
     ·不良现象及解决方法第56-58页
   ·金丝键合质量的检验内容及技术要求第58页
     ·目检内容及技术要求第58页
     ·拉力测试内容及技术要求第58页
   ·金丝键合工艺开发及实验第58-66页
     ·金丝键合要求第58-59页
     ·开发所用设备参数设置第59-60页
     ·实验情况第60-65页
     ·实验结果达标情况第65-66页
   ·金丝键合工艺流程设计第66-68页
     ·设备、材料与工具的准备第66页
     ·键合准备第66页
     ·键合第66-68页
     ·清理第68页
     ·检验第68页
   ·本章小结第68-69页
第五章 结论第69-71页
   ·主要工作回顾第69-70页
   ·本课题的意义和作用第70-71页
     ·课题在实际应用方面的意义和作用第70页
     ·课题在研究领域的意义和作用第70-71页
致谢第71-72页
参考文献第72-73页
学期间成果第73-74页

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