| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-13页 |
| ·论文研究的背景和意义 | 第10页 |
| ·论文所研究的课题的现状和课题的研究方向 | 第10-11页 |
| ·课题的难点、工作内容以及论文的结构安排 | 第11-13页 |
| 第二章 理论介绍及分析 | 第13-21页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·PN 结的击穿机理 | 第14-15页 |
| ·穿通结构功率晶体管基本击穿电压理论 | 第15-17页 |
| ·计算及设计 | 第17-21页 |
| 第三章 实验情况及数据分析 | 第21-40页 |
| ·不同电阻率分档方式对BV_(CEO) 一致性影响 | 第21-23页 |
| ·实验方案 | 第21页 |
| ·测试仪器 | 第21-22页 |
| ·测试数据 | 第22页 |
| ·数据分析及结论 | 第22-23页 |
| ·不同衬底预淀积表面浓度RS 对BV_(CEO) 一致性影响 | 第23-32页 |
| ·实验方案 | 第24页 |
| ·测试仪器 | 第24-25页 |
| ·测试数据 | 第25-29页 |
| ·数据分析及结论 | 第29-32页 |
| ·不同单晶材料电阻率单位厚度变化对应BV_(CEO) 变化 | 第32-40页 |
| ·实验方案 | 第32页 |
| ·测试仪器 | 第32页 |
| ·测试数据 | 第32-37页 |
| ·数据分析及结论 | 第37-40页 |
| 第四章 工艺方法改进、工艺参数控制提高 | 第40-50页 |
| ·衬底主扩结深一致性改善 | 第40-43页 |
| ·CMP 工艺方法改进 | 第43-47页 |
| ·三重扩散工艺与外延工艺方法对比 | 第47-50页 |
| ·实验方案 | 第48页 |
| ·测试仪器 | 第48页 |
| ·测试数据 | 第48-49页 |
| ·数据分析及结论 | 第49-50页 |
| 第五章 结论 | 第50-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 附录1 3.1 实验A、B 各批次具体数据分布图 | 第55-61页 |
| 附录2 利用SILVACO 软件仿真基区扩散结果 | 第61-76页 |
