高性能磁控溅射靶枪的设计

中文摘要	第1-4页
Abstract	第4-7页
1 引言	第7-17页
·课题意义和目的	第7页
·背景	第7-15页
·磁控溅射	第7-10页
·靶设计国内外发展状况	第10-14页
·靶分析和设计的通行方法	第14-15页
·论文思路方法	第15页
·论文各部分的主要内容	第15-17页
2 平面磁控溅射基本原理及常见问题	第17-35页
·溅射原理	第17-22页
·辉光放电	第17-21页
·溅射参数	第21-22页
·溅射镀膜类型	第22-26页
·直流溅射	第22-23页
·射频溅射	第23-24页
·磁控溅射	第24-26页
·磁控溅射常见问题分析	第26-32页
·常见问题分析	第27页
·问题的理论解释	第27-32页
·磁控靶枪阴极面磁路的研究	第32-35页
3 靶结构中磁场的模拟计算及设计	第35-49页
·靶面磁场的分布的影响因素	第35-45页
·磁场分布与靶材刻蚀的关系	第35页
·磁场分布的均匀性	第35-37页
·磁轭	第37-38页
·内外磁极高度差	第38-39页
·导磁片结构	第39-40页
·冷却井(背板)厚度	第40-42页
·优化结构	第42-45页
·靶枪总体结构的设计	第45-47页
·设计靶枪的主要考虑因素	第45-46页
·靶枪设计的实际结构	第46-47页
·本章小结	第47-49页
4 靶验证实验	第49-55页
·磁控溅射装置介绍	第49-50页
·测试样品的制备	第50-52页
·靶枪的安装	第50-51页
·基片的清洗	第51-52页
·性能测试	第52-54页
·辉光放电的测试	第52-53页
·靶材的刻蚀形貌	第53-54页
·本章小结	第54-55页
5 结论	第55-56页
致谢	第56-57页
参考文献	第57-59页
攻读硕士期间所发表的论文	第59页