| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 颗粒的危害 | 第13-14页 |
| 1.3 基片表面颗粒的来源与控制 | 第14-17页 |
| 1.3.1 实验环境 | 第14-16页 |
| 1.3.2 操作人员 | 第16-17页 |
| 1.3.3 基片清洁工艺 | 第17页 |
| 1.4 颗粒检测技术发展与研究现状 | 第17-23页 |
| 1.4.1 颗粒检测技术分类 | 第17-18页 |
| 1.4.2 激光扫描共聚焦显微镜 | 第18-19页 |
| 1.4.3 干涉法 | 第19-20页 |
| 1.4.4 散射法 | 第20-22页 |
| 1.4.5 国内外研究状况 | 第22-23页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 散射理论分析 | 第25-35页 |
| 2.1 颗粒散射理论 | 第25-30页 |
| 2.1.1 Mie散射理论 | 第26-30页 |
| 2.1.2 Rayleigh理论 | 第30页 |
| 2.1.3 Fraunhofer理论 | 第30页 |
| 2.2 基片表面粗糙度和影响分析 | 第30-32页 |
| 2.2.1 基片表面散射值分析 | 第32页 |
| 2.3 本章小结 | 第32-35页 |
| 第3章 基片表面颗粒散射检测方案及散射光场分析 | 第35-47页 |
| 3.1 系统设计方案 | 第35-38页 |
| 3.2 基于FDTD算法的表面散射分析仿真原理 | 第38-39页 |
| 3.3 影响表面颗粒散射的仿真分析 | 第39-44页 |
| 3.3.1 光源入射角对散射光场分布的影响 | 第39-41页 |
| 3.3.2 颗粒直径对散射光场分布的影响 | 第41-43页 |
| 3.3.3 颗粒形状对散射光场分布影响 | 第43-44页 |
| 3.4 不同波长光源散射光场仿真与分析 | 第44-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 颗粒检测成像系统 | 第47-57页 |
| 4.1 暗场检测方法 | 第47-48页 |
| 4.2 检测系统方案 | 第48-56页 |
| 4.2.1 系统光源 | 第49-50页 |
| 4.2.2 成像系统 | 第50-54页 |
| 4.2.3 自动对焦系统 | 第54-55页 |
| 4.2.4 图像采集系统 | 第55-56页 |
| 4.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 表面颗粒图像处理结果及检测实验 | 第57-75页 |
| 5.1 软件开发环境与流程图 | 第57-58页 |
| 5.2 图像处理方法和结果 | 第58-66页 |
| 5.2.1 图像增强 | 第58-61页 |
| 5.2.2 图像空间滤波 | 第61-63页 |
| 5.2.3 检测缺陷 | 第63-64页 |
| 5.2.4 图像分割 | 第64-66页 |
| 5.3 散射成像检测实验及数据分析 | 第66-73页 |
| 5.3.1 系统探测能力 | 第66-70页 |
| 5.3.2 镀膜基片表面与透明基片表面检测结果和分析 | 第70-71页 |
| 5.3.3 颗粒标定实验 | 第71-73页 |
| 5.4 本章小结 | 第73-75页 |
| 第6章 总结与展望 | 第75-77页 |
| 6.1 本论文的主要研究内容 | 第75-76页 |
| 6.2 后续工作展望 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 致谢 | 第83-85页 |
| 作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第85页 |