| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-14页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 表面等离子体的历史背景 | 第9-10页 |
| 1.3 近场直写纳米光刻研究进展 | 第10-12页 |
| 1.3.1 散射探针 | 第10-11页 |
| 1.3.2 圆环阵列探针 | 第11页 |
| 1.3.3 SB型结构探针 | 第11-12页 |
| 1.4 本文的主要内容及安排 | 第12-14页 |
| 2 表面等离子体纳米光刻理论基础 | 第14-22页 |
| 2.1 表面等离子体（SPs） | 第14-16页 |
| 2.2 激发表面等离子体的方法 | 第16-18页 |
| 2.3 局域表面等离激元(LSPs)理论基础 | 第18-20页 |
| 2.4 计算方法介绍 | 第20-21页 |
| 2.5 本章小结 | 第21-22页 |
| 3 DB纳米光刻结构的聚焦特性 | 第22-26页 |
| 3.1 DB纳米光刻结构 | 第22-23页 |
| 3.2 DB纳米光刻结构的焦斑对称特性 | 第23-24页 |
| 3.3 DB纳米光刻结构的电场增强特性 | 第24-25页 |
| 3.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 4 DB-MIM纳米光刻结构的聚焦特性 | 第26-35页 |
| 4.1 DB-MIM纳米光刻结构 | 第26-27页 |
| 4.2 DB-MIM纳米光刻结构的极化调控特性 | 第27-28页 |
| 4.3 DB-MIM纳米光刻结构的聚焦特性 | 第28-30页 |
| 4.3.1 DB-MIM纳米光刻结构对电场增强因子和焦斑尺寸的调控 | 第28-30页 |
| 4.3.2 DB-MIM纳米光刻结构对工作距（D）的调控 | 第30页 |
| 4.4 DB-MIM纳米光刻结构参数对焦斑质量的影响 | 第30-34页 |
| 4.4.1 DB纳米光刻结构对焦斑尺寸的影响 | 第30-32页 |
| 4.4.2 DB-MIM纳米光刻结构各层厚度的影响 | 第32-33页 |
| 4.4.3 DB-MIM纳米光刻结构掩模材料的影响 | 第33-34页 |
| 4.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 5 结束语 | 第35-36页 |
| 5.1 主要工作 | 第35页 |
| 5.2 仍存在的问题 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-40页 |
| 附录 | 第40-41页 |
| 致谢 | 第41-42页 |
| 在校期间科研成果 | 第42页 |
