| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-11页 |
| ·硅微通道加工技术的发展和国内外现状 | 第7-8页 |
| ·硅微通道阵列结构的研究现状及应用 | 第8-10页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第10-11页 |
| 第二章 硅微通道结构释放及整形工艺理论 | 第11-21页 |
| ·硅微通道阵列结构形成的基本原理 | 第11-12页 |
| ·硅微通道阵列结构的制备工艺 | 第12-18页 |
| ·硅微通道阵列结构的背部减薄 | 第18-21页 |
| 第三章 化学机械抛光技术对硅微通道表面平整度影响的研究 | 第21-32页 |
| ·化学机械抛光机理分析 | 第21-24页 |
| ·硅微通道化学机械抛光实验 | 第24-26页 |
| ·影响化学机械抛光质量的因素 | 第26-29页 |
| ·化学机械抛光后的平坦度检测 | 第29-32页 |
| 第四章 硅微通道阵列结构清洗工艺问题研究 | 第32-42页 |
| ·硅微通道清洗原理简介 | 第32-33页 |
| ·硅微通道清洗实验 | 第33-38页 |
| ·硅微通道清洗结果检测 | 第38-42页 |
| 结论 | 第42-43页 |
| 致谢 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |