UV-LIGA技术光刻工艺的研究

摘 要	第1-4页
ABSTRACT	第4-7页
1 绪 论	第7-14页
·微机电系统简介	第7-8页
·MEMS 产品应用商业化	第8-11页
·MEMS 的发展趋势	第11页
·MEMS 发展所需解决的问题	第11-12页
·本课题研究的主要内容及意义	第12-13页
·小结	第13-14页
2 LIGA 与 UV-LIGA 技术	第14-34页
·半导体微细加工技术	第14页
·LIGA 技术	第14-19页
·UV-LIGA 技术	第19-33页
·小结	第33-34页
3 UV-LIGA 光刻工艺流程研究	第34-45页
·衬底材料对光刻工艺的影响	第34-37页
·涂胶	第37-39页
·前烘	第39-41页
·曝光与后烘	第41-43页
·热应力的影响	第43页
·显影	第43-44页
·小结	第44-45页
4 SU-8 胶光敏特性研究	第45-55页
·SU-8 胶曝光波段的研究	第45-51页
·SU-8 胶的曝光剂量控制	第51-54页
·小结	第54-55页
5 SU-8 微结构样品的制作	第55-62页
·微结构掩模板的 CAD 设计	第55-56页
·SU-8 微结构的制作工艺	第56-59页
·实验结果与讨论	第59-61页
·小结	第61-62页
6 总 结	第62-64页
致 谢	第64-65页
参考文献	第65-69页
附录 1 攻读学位期间发表论文及专利目录	第69页