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SiC DSRD器件优化设计与关键工艺研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-16页
    1.1 脉冲功率技术第9-10页
    1.2 半导体功率开关第10-13页
    1.3 DSRD器件第13-15页
    1.4 论文主要内容第15-16页
2 4H-SiC DSRD原理与模型建立第16-26页
    2.1 4H-SiC DSRD结构与工作原理第16-18页
    2.2 4H-SiC DSRD解析模型第18-20页
    2.3 4H-SiC DSRD数值模型第20-24页
    2.4 基于4H-SiC DSRD的脉冲发生电路第24-25页
    2.5 本章小结第25-26页
3 4H-SiC DSRD结构设计与优化第26-42页
    3.1 4H-SiC DSRD体结构优化设计第26-29页
    3.2 4H-SiC DSRD终端结构优化设计第29-39页
    3.3 4H-SiC DSRD电热耦合重频仿真第39-41页
    3.4 本章小结第41-42页
4 4H-SiC DSRD关键工艺与特性分析第42-59页
    4.1 4H-SiC DSRD终端关键工艺第42-49页
    4.2 4H-SiC DSRD欧姆电极工艺第49-50页
    4.3 4H-SiC DSRD静态测试第50-52页
    4.4 4H-SiC DSRD脉冲产生特性分析第52-57页
    4.5 本章小结第57-59页
5 总结与展望第59-61页
致谢第61-62页
参考文献第62-67页
附录1 攻读硕士学位期间发表论文目录第67页

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