| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·引言 | 第10-18页 |
| ·本文研究内容 | 第18页 |
| ·本文结构 | 第18-20页 |
| 第二章 非易失性存储器件 | 第20-27页 |
| ·非易失性存储器的发展历程 | 第20-21页 |
| ·非易失性存储器的类型 | 第21-23页 |
| ·浮栅存储器 | 第23-26页 |
| ·非浮栅存储器 | 第26-27页 |
| 第三章 SONOS存储器件 | 第27-45页 |
| ·SONOS存储器件的工作机制研究 | 第27-33页 |
| ·SONOS存储器件可靠性评价研究 | 第33-41页 |
| ·探索影响SONOS存储器件可靠性测试的因素 | 第41-45页 |
| 第四章 SONOS存储器件性能优化 | 第45-59页 |
| ·SONOS存储器件制作工艺 | 第45页 |
| ·N_2O气氛退火下工艺优化 | 第45-50页 |
| ·隧穿氧化层厚度的工艺优化 | 第50-52页 |
| ·炉管气流和温度均匀性的工艺优化 | 第52-56页 |
| ·调整ONO成膜温度的工艺优化 | 第56-59页 |
| 第五章 总结和展望 | 第59-62页 |
| ·总结 | 第59-60页 |
| ·SONOS器件的可靠性展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 攻读硕士期间发表学术论文 | 第69页 |