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集成电路互连介质SiCON薄膜的制备和性能表征

目录第3-4页
摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 绪论第6-19页
    1.1 集成电路互连介质的提出第6-8页
    1.2 集成电路互连介质的性能要求第8-11页
    1.3 集成电路互连介质的研究现状第11-17页
    1.4 降低集成电路互连介质介电常数的方法第17-18页
    1.5 本章小结第18-19页
第二章 互连介质SICON薄膜的制备与表征方法第19-27页
    2.1 引言第19-20页
    2.2 实验材料及设备第20页
    2.3 实验过程第20-26页
        2.3.1 溶胶-凝胶第20-21页
        2.3.2 旋转涂胶第21-23页
        2.3.3 SiCON薄膜的制备第23页
        2.3.4 样品表征方法第23-26页
    2.4 本章小结第26-27页
第三章 互连介质SICON薄膜的性能表征第27-39页
    3.1 引言第27页
    3.2 SiCON薄膜性能表征第27-38页
        3.2.1 薄膜形貌表征第27-29页
        3.2.2 薄膜热重分析和红外光谱表征第29-31页
        3.2.3 薄膜的XPS分析第31-36页
        3.2.4 薄膜电学性能分析第36-38页
    3.3 本章小结第38-39页
第四章 总结与展望第39-41页
参考文献第41-47页
硕士阶段完成论文与专利第47-48页
致谢第48-49页

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