| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 课题来源及研究的背景和意义 | 第8-10页 |
| 1.1.1 课题的来源 | 第8页 |
| 1.1.2 课题研究的背景和意义 | 第8-10页 |
| 1.2 国内外研究现状与分析 | 第10-17页 |
| 1.2.1 现有抛光加工方法概述 | 第10-14页 |
| 1.2.2 约束刻蚀剂层技术的研究现状 | 第14-16页 |
| 1.2.3 研究现状分析 | 第16-17页 |
| 1.3 论文的主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第2章 运动模式约束刻蚀抛光的原理与实现 | 第18-33页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 约束刻蚀剂层技术基本反应原理 | 第18-19页 |
| 2.3 约束刻蚀剂层技术用于抛光加工的原理 | 第19-24页 |
| 2.3.1 化学抛光加工的原理 | 第19-22页 |
| 2.3.2 约束刻蚀剂层技术用于抛光加工的原理分析 | 第22-24页 |
| 2.4 运动模式约束刻蚀抛光工艺的实现 | 第24-32页 |
| 2.4.1 化学反应体系 | 第24-25页 |
| 2.4.2 电化学微纳米加工平台 | 第25-28页 |
| 2.4.3 运动模式约束刻蚀抛光工艺的实验方法 | 第28-31页 |
| 2.4.4 刻蚀结果的表征 | 第31-32页 |
| 2.5 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 运动模式约束刻蚀抛光的工艺实验研究 | 第33-54页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 实验方案设计 | 第33-36页 |
| 3.2.1 无约束剂三因素实验方案 | 第34-35页 |
| 3.2.2 含约束剂三因素实验方案 | 第35-36页 |
| 3.2.3 约束剂浓度与运动速度的两因素实验方案 | 第36页 |
| 3.3 实验结果与统计分析 | 第36-49页 |
| 3.3.1 实验结果 | 第36-41页 |
| 3.3.2 选择回归模型 | 第41-43页 |
| 3.3.3 回归模型方差分析 | 第43-45页 |
| 3.3.4 响应面结果与讨论 | 第45-49页 |
| 3.4 运动约束刻蚀抛光加工表面形貌对比分析 | 第49-53页 |
| 3.4.1 制作对比样品 | 第49-50页 |
| 3.4.2 表面形貌的对比 | 第50-53页 |
| 3.5 本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 运动模式约束刻蚀抛光过程的仿真研究 | 第54-74页 |
| 4.1 引言 | 第54页 |
| 4.2 三维约束刻蚀流场的有限元仿真模拟 | 第54-60页 |
| 4.2.1 三维运动约束刻蚀稳态有限元模型的建立 | 第55-57页 |
| 4.2.2 三维稳态模型的设定 | 第57-58页 |
| 4.2.3 三维约束刻蚀浓度分布的稳态求解分析 | 第58-60页 |
| 4.3 二维动网格约束刻蚀过程有限元分析 | 第60-64页 |
| 4.3.1 二维动网格约束刻蚀过程有限元建立 | 第61页 |
| 4.3.2 二维动网格约束刻蚀有限元模型的设定 | 第61-63页 |
| 4.3.3 二维动网格约束刻蚀过程有限元分析 | 第63-64页 |
| 4.4 实验过程的有限元仿真分析 | 第64-73页 |
| 4.4.1 无约束剂三因素实验过程的仿真模拟 | 第64-67页 |
| 4.4.2 含约束剂三因素实验过程的仿真模拟 | 第67-69页 |
| 4.4.3 运动参数对约束刻蚀过程的影响作用分析 | 第69-73页 |
| 4.5 本章小结 | 第73-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第80-82页 |
| 致谢 | 第82页 |