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原位合成高密度基因芯片表面处理研究

摘要第1-9页
Abstract第9-11页
第1章 绪论第11-25页
 1.1 引言第11页
 1.2 生物芯片发展简介第11-14页
  1.2.1 国内外发展概况第11-13页
  1.2.2 生物芯片技术第13-14页
 1.3 基因芯片第14-20页
  1.3.1 基因芯片的基本原理第15页
  1.3.2 基因芯片主要组成部分第15页
  1.3.3 基因芯片制备方法第15-18页
  1.3.4 基因芯片的检测第18-20页
  1.3.5 基因芯片的应用第20页
 1.4 基因芯片载体表面预处理技术第20-23页
  1.4.1 载体表面氨基化第21页
  1.4.2 载体表面氨基化和醛基化第21页
  1.4.3 载体表面羟基化第21-22页
  1.4.4 载体表面亲水处理或表面疏水处理第22页
  1.4.5 光纤表面预处理第22-23页
  1.5.6 塑料表面预处理第23页
 1.5 选题意义及主要研究内容第23-25页
第2章 材料及实验方法第25-31页
 2.1 基因芯片表面预处理及其检测过程第25页
 2.2 载体材料第25-27页
  2.2.1 载体材料的要求第25-26页
  2.2.2 载体材料的选择第26页
  2.2.3 玻片清洗第26-27页
 2.3 玻片预处理试剂的配制及样品的制备第27-29页
  2.3.1 玻片羟基化第27页
  2.3.2 玻片氨基化试剂的配置及样品的制备第27页
  2.3.3 玻片醛基化试剂的配置及样品的制备第27-28页
  2.3.4 点样液的配制及其检测第28页
  2.3.5 杂交液的配制及其检测第28-29页
  2.3.6 玻片杂交及其后期处理第29页
 2.4 光刻工艺第29-30页
  2.4.1 光刻机第29页
  2.4.2 涂胶机第29页
  2.4.3光刻胶第29-30页
 2.5 玻片表面检测第30-31页
  2.5.1 芯片共聚焦扫描仪第30页
  2.5.2 荧光显微镜和数码相机第30页
  2.5.3 原子力显微镜第30-31页
第3章 玻片表面预处理分析第31-38页
 3.1 引言第31页
 3.2 玻片羟基化第31页
 3.3 玻片氨基化第31-32页
 3.4 玻片醛基化第32页
 3.5 氨基硅烷试剂的浓度、作用时间对玻片荧光背景的影响第32-33页
 3.6 玻片预处理工艺对寡核苷酸探针固定效率的影响第33-37页
  3.6.1 氨基试剂浓度及处理时间对寡核苷酸探针固定效率的影响第33-34页
  3.6.2 玻片醛基化时间对对寡核苷酸探针固定效率的影响第34页
  3.6.3 紫外交联强能量对探针固定效率的影响第34-35页
  3.6.4 洗涤温度与时间对探针固定效率的影响第35-37页
 3.7 本章小结第37-38页
第4章 玻片表面形貌分析第38-48页
 4.1 引言第38页
 4.2 氨水处理对玻片表面形貌的影响第38-39页
 4.3 氨基化处理对玻片表面形貌的影响第39-42页
 4.4 醛基化处理对玻片表面形貌的影响第42-45页
 4.5 氨基玻片表面形貌检测法与荧光检测法之间的关系第45-46页
 4.6 醛基玻片表面形貌检测法与荧光检测法之间的关系第46-47页
 4.7 本章小结第47-48页
第5章 原位合成高密度基因芯片光刻工艺分析第48-57页
 5.1 引言第48页
 5.2 光刻掩膜版的设计第48-49页
 5.3 光刻工艺分析第49-56页
  5.3.1 涂胶第49页
  5.3.2 前烘第49-51页
  5.3.3 曝光第51-52页
  5.3.4 显影第52-53页
  5.3.5 坚膜第53-54页
  5.3.6 腐蚀第54-56页
  5.3.7 去胶第56页
 5.4 本章小结第56-57页
结论第57-58页
致谢第58-59页
攻读硕士学位期间所发表的学术论文第59-60页
参考文献第60-62页

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