摘要 | 第1-9页 |
Abstract | 第9-11页 |
第1章 绪论 | 第11-25页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 生物芯片发展简介 | 第11-14页 |
1.2.1 国内外发展概况 | 第11-13页 |
1.2.2 生物芯片技术 | 第13-14页 |
1.3 基因芯片 | 第14-20页 |
1.3.1 基因芯片的基本原理 | 第15页 |
1.3.2 基因芯片主要组成部分 | 第15页 |
1.3.3 基因芯片制备方法 | 第15-18页 |
1.3.4 基因芯片的检测 | 第18-20页 |
1.3.5 基因芯片的应用 | 第20页 |
1.4 基因芯片载体表面预处理技术 | 第20-23页 |
1.4.1 载体表面氨基化 | 第21页 |
1.4.2 载体表面氨基化和醛基化 | 第21页 |
1.4.3 载体表面羟基化 | 第21-22页 |
1.4.4 载体表面亲水处理或表面疏水处理 | 第22页 |
1.4.5 光纤表面预处理 | 第22-23页 |
1.5.6 塑料表面预处理 | 第23页 |
1.5 选题意义及主要研究内容 | 第23-25页 |
第2章 材料及实验方法 | 第25-31页 |
2.1 基因芯片表面预处理及其检测过程 | 第25页 |
2.2 载体材料 | 第25-27页 |
2.2.1 载体材料的要求 | 第25-26页 |
2.2.2 载体材料的选择 | 第26页 |
2.2.3 玻片清洗 | 第26-27页 |
2.3 玻片预处理试剂的配制及样品的制备 | 第27-29页 |
2.3.1 玻片羟基化 | 第27页 |
2.3.2 玻片氨基化试剂的配置及样品的制备 | 第27页 |
2.3.3 玻片醛基化试剂的配置及样品的制备 | 第27-28页 |
2.3.4 点样液的配制及其检测 | 第28页 |
2.3.5 杂交液的配制及其检测 | 第28-29页 |
2.3.6 玻片杂交及其后期处理 | 第29页 |
2.4 光刻工艺 | 第29-30页 |
2.4.1 光刻机 | 第29页 |
2.4.2 涂胶机 | 第29页 |
2.4.3光刻胶 | 第29-30页 |
2.5 玻片表面检测 | 第30-31页 |
2.5.1 芯片共聚焦扫描仪 | 第30页 |
2.5.2 荧光显微镜和数码相机 | 第30页 |
2.5.3 原子力显微镜 | 第30-31页 |
第3章 玻片表面预处理分析 | 第31-38页 |
3.1 引言 | 第31页 |
3.2 玻片羟基化 | 第31页 |
3.3 玻片氨基化 | 第31-32页 |
3.4 玻片醛基化 | 第32页 |
3.5 氨基硅烷试剂的浓度、作用时间对玻片荧光背景的影响 | 第32-33页 |
3.6 玻片预处理工艺对寡核苷酸探针固定效率的影响 | 第33-37页 |
3.6.1 氨基试剂浓度及处理时间对寡核苷酸探针固定效率的影响 | 第33-34页 |
3.6.2 玻片醛基化时间对对寡核苷酸探针固定效率的影响 | 第34页 |
3.6.3 紫外交联强能量对探针固定效率的影响 | 第34-35页 |
3.6.4 洗涤温度与时间对探针固定效率的影响 | 第35-37页 |
3.7 本章小结 | 第37-38页 |
第4章 玻片表面形貌分析 | 第38-48页 |
4.1 引言 | 第38页 |
4.2 氨水处理对玻片表面形貌的影响 | 第38-39页 |
4.3 氨基化处理对玻片表面形貌的影响 | 第39-42页 |
4.4 醛基化处理对玻片表面形貌的影响 | 第42-45页 |
4.5 氨基玻片表面形貌检测法与荧光检测法之间的关系 | 第45-46页 |
4.6 醛基玻片表面形貌检测法与荧光检测法之间的关系 | 第46-47页 |
4.7 本章小结 | 第47-48页 |
第5章 原位合成高密度基因芯片光刻工艺分析 | 第48-57页 |
5.1 引言 | 第48页 |
5.2 光刻掩膜版的设计 | 第48-49页 |
5.3 光刻工艺分析 | 第49-56页 |
5.3.1 涂胶 | 第49页 |
5.3.2 前烘 | 第49-51页 |
5.3.3 曝光 | 第51-52页 |
5.3.4 显影 | 第52-53页 |
5.3.5 坚膜 | 第53-54页 |
5.3.6 腐蚀 | 第54-56页 |
5.3.7 去胶 | 第56页 |
5.4 本章小结 | 第56-57页 |
结论 | 第57-58页 |
致谢 | 第58-59页 |
攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-62页 |