| 摘要 | 第1-16页 |
| ABSTRACT | 第16-20页 |
| 缩略词注释表 | 第20-21页 |
| 第一章 绪论 | 第21-36页 |
| ·微机电系统概述 | 第21-27页 |
| ·微机电系统的概念及特点 | 第21-22页 |
| ·微机电系统的研究领域 | 第22-24页 |
| ·微机电系统的应用 | 第24-25页 |
| ·微机电系统发展现状 | 第25-26页 |
| ·微机电系统的前景 | 第26-27页 |
| ·微细加工技术 | 第27-33页 |
| ·硅微机械加工技术 | 第27-29页 |
| ·LIGA技术 | 第29-31页 |
| ·特种超精密微机械加工技术 | 第31-33页 |
| ·本论文研究内容 | 第33-36页 |
| ·论文的研究目的和意义 | 第33-34页 |
| ·主要内容及创新点 | 第34-35页 |
| ·内容安排 | 第35-36页 |
| 第二章 电子束三维光刻技术 | 第36-46页 |
| ·电子束曝光技术 | 第36-42页 |
| ·电子束曝光原理 | 第36-37页 |
| ·电子束曝光特点 | 第37页 |
| ·电子束曝光方式 | 第37-39页 |
| ·电子束曝光的发展历史 | 第39-40页 |
| ·电子束曝光系统 | 第40-42页 |
| ·电子束曝光系统组成 | 第40-41页 |
| ·电子束曝光系统分类 | 第41-42页 |
| ·电子束曝光技术的应用 | 第42页 |
| ·电子束微三维光刻技术 | 第42-44页 |
| ·电子束液态曝光技术 | 第43页 |
| ·电子束重复增量扫描曝光技术 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第三章 电子束重复增量扫描方式的反应机理研究 | 第46-60页 |
| ·抗蚀剂性能 | 第46-53页 |
| ·抗蚀剂原理 | 第47页 |
| ·抗蚀剂的一般特性 | 第47-49页 |
| ·电子束抗蚀剂 | 第49-53页 |
| ·重复增量扫描曝光方式反应机理研究 | 第53-58页 |
| ·聚合物辐射的主要化学反应 | 第53-54页 |
| ·辐射降解反应机理 | 第54-55页 |
| ·曝光剂量与辐射降解程度间的关系 | 第55-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第四章 电子束能量、剂量与刻蚀深度间的关系 | 第60-91页 |
| ·电子束能量与刻蚀深度间的关系 | 第60-78页 |
| ·Monte Carlo模拟法 | 第60-75页 |
| ·Grun射程公式 | 第75页 |
| ·能量与刻蚀深度间的关系 | 第75-78页 |
| ·电子束曝光剂量与刻蚀深度间的关系 | 第78-89页 |
| ·抗蚀剂吸收能量密度的计算 | 第78-83页 |
| ·解析法 | 第79-80页 |
| ·Monte Carlo模拟法 | 第80-83页 |
| ·曝光剂量与刻蚀深度间的关系 | 第83-86页 |
| ·用反差确定曝光剂量与刻蚀深度间的关系 | 第86-89页 |
| ·反差定义及计算 | 第86-87页 |
| ·PMMA灵敏度定义及计算 | 第87页 |
| ·曝光剂量与刻蚀深度间的关系 | 第87-88页 |
| ·实验结果分析 | 第88-89页 |
| ·小结 | 第89-91页 |
| 第五章 电子束曝光图形数据处理 | 第91-114页 |
| ·国内外电子束曝光图形数据处理概况 | 第92-94页 |
| ·国外概况 | 第92-93页 |
| ·国内概况 | 第93-94页 |
| ·曝光图形的设计及注意事项 | 第94-97页 |
| ·曝光图形的设计原则 | 第94-95页 |
| ·L-Edit软件设计曝光图形 | 第95-97页 |
| ·设计时的注意事项 | 第97页 |
| ·曝光图形数据格式转换 | 第97-109页 |
| ·常用数据格式 | 第98-106页 |
| ·DXF数据格式 | 第98-99页 |
| ·CIF数据格式 | 第99-101页 |
| ·机器数据格式——DY51格式 | 第101-105页 |
| ·中间数据格式 | 第105-106页 |
| ·数据格式转换过程 | 第106-108页 |
| ·曝光图形数据转换后的结果 | 第108-109页 |
| ·DSP控制的电子束曝光图形发生器 | 第109-111页 |
| ·DSP控制的图形发生器的工作原理 | 第109-110页 |
| ·图形发生器的基本功能 | 第110-111页 |
| ·曝光图形数据传输 | 第111-113页 |
| ·PC机数据传输过程 | 第111页 |
| ·通讯协议 | 第111-112页 |
| ·人机界面 | 第112页 |
| ·图形检验 | 第112-113页 |
| ·小结 | 第113-114页 |
| 第六章 电子束三维光刻制作PCR微流控芯片微通道的工艺研究 | 第114-141页 |
| ·PCR微流控芯片发展意义 | 第114-118页 |
| ·PCR芯片 | 第115-116页 |
| ·国内外研究现状 | 第116-117页 |
| ·发展趋势 | 第117-118页 |
| ·软刻蚀技术 | 第118-127页 |
| ·软刻蚀技术基本原理 | 第118-120页 |
| ·软刻蚀技术分类及应用 | 第120-125页 |
| ·微接触印刷法 | 第120-121页 |
| ·复制模塑法 | 第121-122页 |
| ·微转移模塑法 | 第122-123页 |
| ·毛细管微模塑法 | 第123-124页 |
| ·辅助溶剂微模塑法 | 第124-125页 |
| ·软刻蚀技术发展前景 | 第125-127页 |
| ·重复增量扫描曝光方法加工PCR芯片微通道掩膜版 | 第127-139页 |
| ·微通道结构优化设计 | 第127-130页 |
| ·抗蚀剂图形制作工艺 | 第130-134页 |
| ·实验结果分析 | 第134-139页 |
| ·结论 | 第139页 |
| ·利用软刻蚀技术制作微通道 | 第139-140页 |
| ·小结 | 第140-141页 |
| 第七章 结论 | 第141-145页 |
| 参考文献 | 第145-158页 |
| 攻读博士学位期间完成的论文及参加的科研工作 | 第158-160页 |
| 致谢 | 第160-171页 |