| Contents | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-10页 |
| Abstract | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-37页 |
| 第一节 引言 | 第13-19页 |
| 第二节 铁磁性半导体 | 第19-29页 |
| ·铁磁性半导体的基本特征 | 第19-20页 |
| ·铁磁性半导体中铁磁性的起源 | 第20-23页 |
| ·铁磁性半导体的应用 | 第23-24页 |
| ·铁磁性半导体的研究历史 | 第24-29页 |
| 第三节 氧化铟的材料特性 | 第29-30页 |
| 第四节 氧化铟基铁磁性半导体的研究现状 | 第30-37页 |
| 第二章 样品的制备技术与测试分析方法 | 第37-48页 |
| 第一节 脉冲激光沉积技术 | 第37-42页 |
| ·脉冲激光沉积的原理 | 第38-39页 |
| ·脉冲激光沉积镀膜的优缺点 | 第39-40页 |
| ·实验室用脉冲激光沉积设备介绍 | 第40-42页 |
| 第二节 薄膜的测试分析方法 | 第42-48页 |
| ·反射式高能电子衍射 | 第42-43页 |
| ·X射线衍射 | 第43-44页 |
| ·原子力显微镜 | 第44-46页 |
| ·超导量子干涉仪 | 第46-48页 |
| 第三章 外延铁掺杂氧化铟铁磁性半导体的生长及性能研究 | 第48-69页 |
| 第一节 引言 | 第48页 |
| 第二节 外延铁掺杂氧化铟外延薄膜的制备 | 第48-50页 |
| 第三节 外延铁掺杂氧化铟薄膜的性质研究 | 第50-69页 |
| ·样品的结构特征 | 第50-54页 |
| ·样品的磁性特征 | 第54-58页 |
| ·样品的输运特征 | 第58-69页 |
| 第四章 总结与展望 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第77页 |