MOCVD法制备锌锡氧薄膜及其特性研究

摘要	第1-10页
ABSTRACT	第10-12页
主要符号说明	第12-13页
第一章 引言	第13-26页
·透明导电膜的研究背景及其应用	第13-14页
·二氧化锡的性质	第14-17页
·结构性质	第14-15页
·光学性质	第15-16页
·电学性质	第16-17页
·氧化锌的性质	第17-20页
·结构性质	第17-18页
·光学性质	第18-19页
·电学性质	第19-20页
·锡酸锌的相关性质	第20-21页
·透明导电氧化物薄膜的制备工艺	第21-23页
·选题动机	第23-26页
第二章 金属有机化学气相沉积法及MOCVD系统	第26-32页
·MOCVD法的基本原理	第26页
·MOCVD法的特点	第26-27页
·MOCVD系统	第27-32页
·MOCVD系统概述	第27-29页
·本实验的MOCVD系统	第29-32页
第三章 测试仪器及测试分析方法	第32-38页
·结构和成分测试分析	第32-33页
·薄膜表面形貌分析	第33-34页
·光学性质的测量	第34页
·电学性质的测量	第34-38页
第四章 锌锡氧薄膜的制备及其性质研究	第38-55页
·薄膜的制备	第38-40页
·实验准备	第38-39页
·薄膜制备过程	第39-40页
·Zn-Sn-O薄膜的结构性质	第40-46页
·Zn-Sn-O薄膜的光学性质	第46-47页
·Zn-Sn-O薄膜的表面形貌及成分分析	第47-52页
·Zn-Sn-O薄膜的电学性质	第52-53页
·退火对Zn-Sn-O薄膜的结构性质的影响	第53-55页
第五章 结论	第55-56页
参考文献	第56-59页
致谢	第59-60页
学位论文评阅及答辩情况表	第60页