| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 引言 | 第7-9页 |
| 第一章 POCl_3工艺介绍 | 第9-15页 |
| ·扩散 | 第9-10页 |
| ·扩散的原理 | 第10-12页 |
| ·POCl_3反应的原理 | 第12-14页 |
| ·低浓度掺杂和多晶掺杂 | 第14-15页 |
| 第二章 POCl_3工艺的建立 | 第15-25页 |
| ·目的和要求 | 第15页 |
| ·主要参数的设定 | 第15-19页 |
| ·其他因素 | 第19-22页 |
| ·选取条件的其他考量 | 第22-25页 |
| 第三章 POCl_3艺的优化 | 第25-35页 |
| ·均匀性问题 | 第25-26页 |
| ·放置方式 | 第26-27页 |
| ·散流板 | 第27-29页 |
| ·自掺杂 | 第29-31页 |
| ·氧气 | 第31-32页 |
| ·倾斜角度 | 第32-33页 |
| ·小结 | 第33-35页 |
| 第四章 注入转扩散的评估 | 第35-41页 |
| ·替代的背景 | 第35-36页 |
| ·遇到的问题 | 第36-37页 |
| ·确定条件 | 第37-39页 |
| ·电容 | 第39页 |
| ·小结 | 第39-41页 |
| 第五章 多晶掺杂 | 第41-44页 |
| ·单晶与多晶 | 第41页 |
| ·实验设计 | 第41页 |
| ·分析及结论 | 第41-43页 |
| ·反射率与电阻 | 第43-44页 |
| 第六章 结论 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |