| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| §1.1 硅基发光材料的研究背景和意义 | 第9-11页 |
| §1.2 局域表面等离激元在硅基发光材料中的应用 | 第11-17页 |
| §1.2.1 表面等离极化激元 | 第11-12页 |
| §1.2.2 局域表面等离激元 | 第12-14页 |
| §1.2.3 纳米银阵列的表面等离激元在硅基发光材料中的应用 | 第14-17页 |
| §1.3 本论文的主要研究内容 | 第17-19页 |
| 参考文献 | 第19-22页 |
| 第二章 有序尺寸可控纳米银阵列的制备及光学特性 | 第22-40页 |
| §2.1 引言 | 第22-24页 |
| §2.2 有序尺寸可控纳米银阵列的制备 | 第24-35页 |
| §2.2.1 单层纳米球掩膜制备纳米银六角阵列及其形貌分析 | 第27-29页 |
| §2.2.2 双层纳米球掩膜制备纳米银六角有心阵列及其形貌分析 | 第29-31页 |
| §2.2.3 单层纳米球掩膜制备纳米银圆环阵列及其形成机制分析 | 第31-35页 |
| §2.3 有序尺寸可控纳米银阵列消光特性研究 | 第35-37页 |
| §2.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-40页 |
| 第三章 有序可控纳米银阵列的局域表面等离激元增强a-SiN_x:O薄膜发光 | 第40-55页 |
| §3.1 引言 | 第40-41页 |
| §3.2 调节Si/N比制备不同发光峰位的a-SiN_x:O薄膜 | 第41-43页 |
| §3.3 六角纳米银阵列对a-SiN_x:O薄膜光致发光的增强 | 第43-48页 |
| §3.4 六角纳米银阵列对a-SiN_x:O薄膜发光寿命的影响 | 第48-52页 |
| §3.5 本章小结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |
| 第四章 总结与展望 | 第55-57页 |
| §4.1 研究工作总结 | 第55-56页 |
| §4.2 展望 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第58-60页 |
