| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 课题研究的背景和意义 | 第8-9页 |
| 1.2 微纳米加工技术的国内外研究现状 | 第9-15页 |
| 1.2.1 光学曝光技术 | 第9页 |
| 1.2.2 电子束曝光技术 | 第9-11页 |
| 1.2.3 聚焦离子束加工技术 | 第11页 |
| 1.2.4 扫描探针加工技术 | 第11-14页 |
| 1.2.5 喷墨打印加工技术 | 第14页 |
| 1.2.6 各种微纳米加工技术总结分析 | 第14-15页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第15-16页 |
| 2 “钢笔式”微器件直写系统的研究 | 第16-37页 |
| 2.1 引言 | 第16-18页 |
| 2.2 “钢笔式”微器件研究 | 第18-26页 |
| 2.2.1 钢笔直写电子器件的国内外研究现状 | 第18-21页 |
| 2.2.2 “钢笔式”微器件的书写原理 | 第21-24页 |
| 2.2.3 “钢笔式”微器件的书写影响因素分析及设计 | 第24-26页 |
| 2.3 微小接触力监测方法研究 | 第26-35页 |
| 2.3.1 监测微小接触力的国内外研究现状 | 第26-29页 |
| 2.3.2 微小接触力测量原理和方法分析 | 第29-32页 |
| 2.3.3 微小接触力测量方法的实验验证 | 第32-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-37页 |
| 3 基于“钢笔式”微器件的微纳掩模自动直写研究 | 第37-47页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 微纳掩模直写系统 | 第37-41页 |
| 3.2.1 三轴精密运动单元 | 第37-39页 |
| 3.2.2 数据采集及反馈控制单元 | 第39-41页 |
| 3.3 微纳掩模自动直写过程的软件系统研究 | 第41-46页 |
| 3.3.1 接触力信号采集及显示 | 第42-43页 |
| 3.3.2 运动控制 | 第43-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 4 直写掩模方法用于图形转移技术研究 | 第47-55页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 图形转移技术 | 第47-50页 |
| 4.2.1 沉积法图形转移技术 | 第47-49页 |
| 4.2.2 刻蚀法图形转移技术 | 第49-50页 |
| 4.3 制备少层石墨片结构 | 第50-54页 |
| 4.3.1 石墨烯及其制备方法研究 | 第50-51页 |
| 4.3.2 制备少层石墨片结构工艺研究 | 第51-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 5 总结与展望 | 第55-57页 |
| 5.1 论文工作总结 | 第55-56页 |
| 5.2 后续工作展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 附录﹒攻读硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第62-63页 |