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用于微纳制造的“钢笔式”微器件直写方法研究

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
1 绪论第8-16页
    1.1 课题研究的背景和意义第8-9页
    1.2 微纳米加工技术的国内外研究现状第9-15页
        1.2.1 光学曝光技术第9页
        1.2.2 电子束曝光技术第9-11页
        1.2.3 聚焦离子束加工技术第11页
        1.2.4 扫描探针加工技术第11-14页
        1.2.5 喷墨打印加工技术第14页
        1.2.6 各种微纳米加工技术总结分析第14-15页
    1.3 本文主要研究内容第15-16页
2 “钢笔式”微器件直写系统的研究第16-37页
    2.1 引言第16-18页
    2.2 “钢笔式”微器件研究第18-26页
        2.2.1 钢笔直写电子器件的国内外研究现状第18-21页
        2.2.2 “钢笔式”微器件的书写原理第21-24页
        2.2.3 “钢笔式”微器件的书写影响因素分析及设计第24-26页
    2.3 微小接触力监测方法研究第26-35页
        2.3.1 监测微小接触力的国内外研究现状第26-29页
        2.3.2 微小接触力测量原理和方法分析第29-32页
        2.3.3 微小接触力测量方法的实验验证第32-35页
    2.4 本章小结第35-37页
3 基于“钢笔式”微器件的微纳掩模自动直写研究第37-47页
    3.1 引言第37页
    3.2 微纳掩模直写系统第37-41页
        3.2.1 三轴精密运动单元第37-39页
        3.2.2 数据采集及反馈控制单元第39-41页
    3.3 微纳掩模自动直写过程的软件系统研究第41-46页
        3.3.1 接触力信号采集及显示第42-43页
        3.3.2 运动控制第43-46页
    3.4 本章小结第46-47页
4 直写掩模方法用于图形转移技术研究第47-55页
    4.1 引言第47页
    4.2 图形转移技术第47-50页
        4.2.1 沉积法图形转移技术第47-49页
        4.2.2 刻蚀法图形转移技术第49-50页
    4.3 制备少层石墨片结构第50-54页
        4.3.1 石墨烯及其制备方法研究第50-51页
        4.3.2 制备少层石墨片结构工艺研究第51-54页
    4.4 本章小结第54-55页
5 总结与展望第55-57页
    5.1 论文工作总结第55-56页
    5.2 后续工作展望第56-57页
参考文献第57-61页
致谢第61-62页
附录﹒攻读硕士学位期间发表的学术论文目录第62-63页

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