无掩模光刻技术及其曝光方案研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号对照表 | 第11-12页 |
| 缩略语对照表 | 第12-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-23页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第15-16页 |
| 1.2 掩模光刻技术的研究现状 | 第16-18页 |
| 1.3 无掩模光刻技术的研究现状 | 第18-22页 |
| 1.3.1 电子束光刻技术 | 第18-19页 |
| 1.3.2 离子束光刻技术 | 第19页 |
| 1.3.3 干涉光刻技术 | 第19-20页 |
| 1.3.4 SLM无掩模光刻技术 | 第20-22页 |
| 1.4 本文的研究内容及章节安排 | 第22-23页 |
| 第二章 空间光调制器的特性研究 | 第23-35页 |
| 2.1 SLM光刻中的空间光调制器 | 第23-24页 |
| 2.2 数字微反射镜器件的物理结构 | 第24-26页 |
| 2.3 数字微反射镜器件的工作原理 | 第26-31页 |
| 2.3.1 光开关原理 | 第26-27页 |
| 2.3.2 控制原理 | 第27-30页 |
| 2.3.3 灰度调制原理 | 第30-31页 |
| 2.4 数字微反射镜器件的光学性能 | 第31-33页 |
| 2.4.1 性能特点 | 第31-32页 |
| 2.4.2 光学特性 | 第32-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 DMD光刻系统设计与成像分析 | 第35-53页 |
| 3.1 系统总体架构 | 第35-36页 |
| 3.2 光学系统设计 | 第36-41页 |
| 3.2.1 光源选择 | 第36-38页 |
| 3.2.2 光路设计 | 第38-40页 |
| 3.2.3 投影物镜 | 第40-41页 |
| 3.3 数字微反射镜器件的成像模型 | 第41-49页 |
| 3.3.1 部分相干曝光成像模型 | 第42页 |
| 3.3.2 模型的成像理论基础 | 第42-44页 |
| 3.3.3 微镜单元的成像分析与模拟 | 第44-48页 |
| 3.3.4 微镜阵列的非相干成像 | 第48-49页 |
| 3.4 去栅格化分析 | 第49-51页 |
| 3.5 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 快速曝光方案及自适应拼接算法 | 第53-79页 |
| 4.1 步进投影式曝光 | 第53-60页 |
| 4.1.1 曝光的基本过程 | 第53-54页 |
| 4.1.2 拼接误差分析 | 第54页 |
| 4.1.3 拼接误差的校正与仿真 | 第54-59页 |
| 4.1.4 曝光模式分析 | 第59-60页 |
| 4.2 连续扫描式曝光 | 第60-70页 |
| 4.2.1 曝光的基本过程 | 第60-61页 |
| 4.2.2 成像分析与仿真 | 第61-66页 |
| 4.2.3 曝光量调制特性 | 第66-70页 |
| 4.3 自适应扫描拼接算法 | 第70-73页 |
| 4.3.1 拼接误差的预校正 | 第71-72页 |
| 4.3.2 扫描式拼接算法研究 | 第72-73页 |
| 4.4 仿真实验与分析 | 第73-77页 |
| 4.5 本章小结 | 第77-79页 |
| 第五章 基于视频流的曝光方案实现 | 第79-85页 |
| 5.1 实验平台搭建 | 第79-80页 |
| 5.2 扫描曝光软件实现 | 第80-82页 |
| 5.3 曝光方案的测试与分析 | 第82-84页 |
| 5.4 本章小结 | 第84-85页 |
| 第六章 总结与展望 | 第85-87页 |
| 6.1 工作总结 | 第85页 |
| 6.2 未来展望 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-91页 |
| 致谢 | 第91-93页 |
| 作者简介 | 第93-94页 |
