| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 1 前言 | 第12-24页 |
| 1.1 项目研究背景 | 第12-13页 |
| 1.2 我国果蔬防腐保鲜技术的发展 | 第13-16页 |
| 1.2.1 冷藏保鲜技术 | 第14页 |
| 1.2.2 辐照保鲜技术 | 第14-15页 |
| 1.2.3 气调保鲜技术 | 第15页 |
| 1.2.4 防腐剂保鲜技术 | 第15-16页 |
| 1.2.5 生物保鲜技术 | 第16页 |
| 1.3 二氧化钛纳米管光催化研究进展 | 第16-17页 |
| 1.4 二氧化钛纳米管光催化抗菌机理 | 第17-18页 |
| 1.5 影响二氧化钛纳米管光催化抗菌性能因素 | 第18-20页 |
| 1.5.1 粒径 | 第18-19页 |
| 1.5.2 晶型 | 第19-20页 |
| 1.6 研究提出及主要研究内容 | 第20-24页 |
| 1.6.1 研究的提出 | 第20-21页 |
| 1.6.2 研究内容及创新点 | 第21-23页 |
| 1.6.3 技术路线图 | 第23-24页 |
| 2 材料与方法 | 第24-32页 |
| 2.1 材料与试剂 | 第24-25页 |
| 2.2 主要仪器与设备 | 第25-26页 |
| 2.3 阳极氧化反应装置 | 第26-27页 |
| 2.4 光催化反应装置 | 第27页 |
| 2.5 光催化剂的制备 | 第27-29页 |
| 2.5.1 二氧化钛纳米管阵列的制备 | 第27-28页 |
| 2.5.1.1 物理抛光 | 第27-28页 |
| 2.5.1.2 电化学处理 | 第28页 |
| 2.5.1.3 电解液配置 | 第28页 |
| 2.5.1.4 阳极氧化法制备无晶型二氧化钛纳米管阵列 | 第28页 |
| 2.5.2 高温煅烧调质制备TNAs | 第28页 |
| 2.5.3 纳米银修饰二氧化钛纳米管（AgNP-*TNAs）的制备 | 第28页 |
| 2.5.3.1 AgNP的制备 | 第28页 |
| 2.5.3.2 AgNP-*TNAs的制备 | 第28页 |
| 2.5.4 还原氧化石墨烯修饰二氧化钛纳米管（rGO-*TNAs）的制备 | 第28-29页 |
| 2.5.4.1 rGO的制备 | 第28-29页 |
| 2.5.4.2 rGO-*TNAs的制备 | 第29页 |
| 2.6 二氧化钛纳米管抑菌试验 | 第29-30页 |
| 2.6.1 青霉菌的活化 | 第29页 |
| 2.6.1.1 霉菌培养基 | 第29页 |
| 2.6.1.2 霉菌活化 | 第29页 |
| 2.6.2 菌悬液的制备 | 第29页 |
| 2.6.3 染菌平板的制备 | 第29页 |
| 2.6.4 TNAs、AgNP-*TNAs、rGO-*TNAs的贴放与抑菌圈试验 | 第29-30页 |
| 2.6.5 TNAs、AgNP-*TNAs、rGO-*TNAs光催化对青霉菌丝生长量的影响 | 第30页 |
| 2.6.6 TNAs、AgNP-*TNAs、rGO-*TNAs光催化对青霉菌落扩展的影响 | 第30页 |
| 2.7 从微观角度探讨TNAs、AgNP-*TNAs、rGO-*TNAs对青霉的抑制灭活机理 | 第30-32页 |
| 2.7.1 青霉扫描电镜处理 | 第30-31页 |
| 2.7.2 青霉透射电镜处理 | 第31页 |
| 2.7.3 青霉DNA提取和电泳 | 第31-32页 |
| 2.8 数据处理软件及数据库 | 第32页 |
| 3 试验设计 | 第32-34页 |
| 3.1 TNAs、AgNP-*TNAs、rGO-*TNAs对青霉菌的抑制效果 | 第32-33页 |
| 3.1.1 TNAs、AgNP-*TNAs、rGO-*TNAs的抑菌圈试验 | 第32页 |
| 3.1.2 TNAs、AgNP-*TNAs、rGO-*TNAs对青霉菌菌丝生长量的影响 | 第32-33页 |
| 3.1.3 TNAs、AgNP-*TNAs、rGO-*TNAs对青霉菌菌落扩展的影响 | 第33页 |
| 3.2 从微观角度研究光催化抗菌材料TNAs、AgNP-*TNAs、rGO-*TNAs对青霉菌抑制机理 | 第33-34页 |
| 3.2.1 扫描电镜观察青霉抑制前后孢子外部形态 | 第33页 |
| 3.2.2 透射电镜观察青霉抑制前后孢子内部形态 | 第33页 |
| 3.2.3 电泳观察抑制前后青霉DNA破坏情况 | 第33-34页 |
| 4 结果与分析 | 第34-55页 |
| 4.1 二氧化钛纳米管结构型貌及其光催化对青霉菌的抑制效果 | 第34-39页 |
| 4.1.1 煅烧晶化调质的TNAs结构型貌 | 第34-36页 |
| 4.1.2 煅烧晶化调质的TNAs对青霉菌抑菌圈的影响 | 第36-37页 |
| 4.1.3 煅烧晶化调质的TNAs对青霉菌丝生长量的影响 | 第37-38页 |
| 4.1.4 煅烧晶化调质的TNAs对青霉菌菌落扩展的影响 | 第38页 |
| 4.1.5 煅烧晶化调质的TNAs光催化抑制青霉菌效果分析 | 第38-39页 |
| 4.2 AgNP-*TNAs结构型貌及其光催化对青霉菌的抑制效果 | 第39-44页 |
| 4.2.1 AgNP-*TNAs结构型貌 | 第39-41页 |
| 4.2.2 AgNP-*TNAs对青霉菌抑菌圈的影响 | 第41-42页 |
| 4.2.3 AgNP-*TNAs对青霉菌菌丝生长量的影响 | 第42-43页 |
| 4.2.4 AgNP-*TNAs对青霉菌菌落扩展的影响 | 第43页 |
| 4.2.5 AgNP-*TNAs光催化抑制青霉菌效果分析 | 第43-44页 |
| 4.3 rGO-*TNAs结构型貌及其光催化对青霉菌的抑制效果 | 第44-49页 |
| 4.3.1 rGO-*TNAs结构型貌 | 第44-45页 |
| 4.3.2 rGO-*TNAs对青霉菌抑菌圈的影响 | 第45-46页 |
| 4.3.3 rGO-*TNAs对青霉菌菌丝生长量的影响 | 第46-47页 |
| 4.3.4 rGO-*TNAs对青霉菌菌落扩展的影响 | 第47-48页 |
| 4.3.5 rGO-*TNAs光催化抑制青霉菌效果分析 | 第48-49页 |
| 4.4 从微观角度研究光催化抗菌材料TNAs、AgNP-*TNAs、rGO-*TNAs对青霉菌抑制机理 | 第49-55页 |
| 4.4.1 扫描电镜观察青霉抑制前后孢子外部形态 | 第49-51页 |
| 4.4.2 透射电镜观察青霉抑制前后孢子内部形态 | 第51-54页 |
| 4.4.3 电泳图谱观察对青霉DNA破坏情况 | 第54-55页 |
| 5 讨论 | 第55-62页 |
| 5.1 锻烧温度对二氧化钛纳米管阵列光催化霉菌的抑制效果 | 第55-57页 |
| 5.2 AgNP作用及其掺杂改性二氧化钛纳米管提高光催化霉菌效果机理 | 第57-60页 |
| 5.3 rGO作用及其掺杂改性二氧化钛纳米管光催化霉菌效果机理 | 第60-62页 |
| 6 结论 | 第62-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-75页 |
| 附录 | 第75-80页 |
