| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-28页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·拓扑绝缘体 | 第10-19页 |
| ·二维拓扑绝缘体 | 第11-12页 |
| ·三维拓扑绝缘体 | 第12-14页 |
| ·三维拓扑绝缘体薄膜和纳米结构的制备 | 第14-19页 |
| ·激光热效应及激光微纳加工技术在二维层状材料中的应用 | 第19-25页 |
| ·激光在材料中引起的热效应 | 第19-20页 |
| ·激光微纳加工技术在二维层状材料中的应用 | 第20-25页 |
| ·本论文的研究目的和内容 | 第25-28页 |
| 2 热壁外延生长系统的搭建 | 第28-38页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·热壁外延生长技术的原理、研究进展 | 第28-33页 |
| ·用于 Bi_2Te_3薄膜、纳米结构制备的热壁外延生长系统 | 第33-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 3 Bi_2Te_3薄膜的热壁外延生长及其性质表征 | 第38-52页 |
| ·引言 | 第38-39页 |
| ·实验部分 | 第39-40页 |
| ·Bi_2Te_3薄膜的微结构和电学特性表征 | 第40-43页 |
| ·Bi_2Te_3薄膜的生长模式 | 第43-45页 |
| ·衬底温度及晶向对 Bi_2Te_3薄膜微结构的影响 | 第45-47页 |
| ·Bi_2Te_3薄膜在空气中的表面氧化特性 | 第47-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 4 改进的热壁外延技术制备 Bi_2Te_3纳米盘及其性质研究 | 第52-64页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·实验部分 | 第52-53页 |
| ·带孔石英盘对 Bi_2Te_3纳米盘生长的影响 | 第53-56页 |
| ·Bi_2Te_3纳米盘的生长模式 | 第56-57页 |
| ·Bi_2Te_3纳米盘在空气中的表面氧化特性 | 第57-58页 |
| ·Bi_2Te_3纳米盘的厚度对 Raman 光谱的影响 | 第58-61页 |
| ·本章小结 | 第61-64页 |
| 5 基于 Raman 光谱的 Bi_2Te_3薄膜和纳米盘的激光热效应研究 | 第64-104页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·空气中退火对 Bi_2Te_3薄膜的影响 | 第64-70页 |
| ·温度对 Bi_2Te_3薄膜的 Raman 光谱的影响 | 第70-73页 |
| ·激光照射对 Bi_2Te_3薄膜的结构和化学性质的影响 | 第73-95页 |
| ·通过同步 Raman 光谱研究不同激光功率对 Bi_2Te_3薄膜的影响 | 第73-77页 |
| ·低功率（1.5 -4.5 mW）激光照射对 Bi_2Te_3薄膜结构和化学性质的影响 | 第77-82页 |
| ·高功率（5 -15 mW）激光照射对 Bi_2Te_3薄膜的结构和化学性质的影响 | 第82-95页 |
| ·激光照射对 Bi_2Te_3纳米盘的结构和化学性质的影响 | 第95-102页 |
| ·激光照射对 Bi_2Te_3厚纳米盘的结构和化学性质的影响 | 第95-98页 |
| ·激光照射对 Bi_2Te_3超薄纳米盘的结构和化学性质的影响 | 第98-102页 |
| ·本章小结 | 第102-104页 |
| 6 总结与展望 | 第104-106页 |
| 参考文献 | 第106-118页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第118页 |
