| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| 1.1 课题来源 | 第8页 |
| 1.2 课题研究的背景和意义 | 第8-9页 |
| 1.3 国内外研究现状及分析 | 第9-13页 |
| 1.3.1 现有GaAs加工方法概述 | 第9-10页 |
| 1.3.2 约束刻蚀层技术研究现状 | 第10-12页 |
| 1.3.3 研究现状分析 | 第12-13页 |
| 1.4 主要研究内容 | 第13-15页 |
| 第2章 基于刀具电极电位调节的约束刻蚀过程仿真与分析 | 第15-29页 |
| 2.1 引言 | 第15页 |
| 2.2 化学反应体系及二维模型的建立与假设 | 第15-17页 |
| 2.2.1 化学反应体系 | 第15-16页 |
| 2.2.2 二维模型建立与假设 | 第16-17页 |
| 2.3 基于刀具电极电位调节的约束刻蚀过程稳态模型仿真与分析 | 第17-21页 |
| 2.3.1 稳态模型的设定 | 第17-18页 |
| 2.3.2 网格的设定 | 第18页 |
| 2.3.3 稳态模型结果分析 | 第18-21页 |
| 2.4 基于刀具电极电位调节的约束刻蚀过程瞬态模型仿真与分析 | 第21-28页 |
| 2.4.1 瞬态模型的设定 | 第21-22页 |
| 2.4.2 瞬态模型结果分析 | 第22-28页 |
| 2.5 本章小结 | 第28-29页 |
| 第3章 基于刀具电极电位调节的GaAs表面基础刻蚀实验与分析 | 第29-45页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 GaAs表面刻蚀加工的实现 | 第29-32页 |
| 3.2.1 实验设备 | 第29-30页 |
| 3.2.2 实验材料 | 第30-32页 |
| 3.2.3 实验操作方法及表征方法 | 第32页 |
| 3.3 静态刻蚀下GaAs表面刻蚀加工实验与分析 | 第32-37页 |
| 3.3.1 刀具电极电流与刀具电极电位的关系 | 第33页 |
| 3.3.2 刀具电极电位与刻蚀轮廓的关系 | 第33-35页 |
| 3.3.3 刀具电极电位与刻蚀深度的关系 | 第35页 |
| 3.3.4 刀具电极电流与刻蚀深度的关系 | 第35-36页 |
| 3.3.5 刀具电极电流与刻蚀时间的关系 | 第36-37页 |
| 3.4 动态刻蚀下GaAs表面刻蚀加工实验与分析 | 第37-44页 |
| 3.4.1 刀具电极电流与刀具电极电位的关系 | 第37-38页 |
| 3.4.2 刀具电极电位与刻蚀轮廓的关系 | 第38-41页 |
| 3.4.3 刀具电极电位与刻蚀深度的关系 | 第41页 |
| 3.4.4 刀具电极电流与刻蚀深度的关系 | 第41-43页 |
| 3.4.5 刀具电极电流与刻蚀时间的关系 | 第43-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 基于电极电位调节的GaAs表面刻蚀加工工艺研究 | 第45-62页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 理论公式指导下的GaAs表面简单三维曲面刻蚀结果及分析 | 第45-50页 |
| 4.2.1 GaAs表面刻蚀加工的参数设计 | 第45-46页 |
| 4.2.2 GaAs表面刻蚀加工结果分析 | 第46-50页 |
| 4.3 GaAs表面简单三维曲面刻蚀优化过程及分析 | 第50-59页 |
| 4.3.1 GaAs表面刻蚀的刻蚀时间优化结果及分析 | 第51-55页 |
| 4.3.2 基于电流反馈GaAs表面刻蚀的优化结果及分析 | 第55-59页 |
| 4.4 参数优化下GaAs表面复杂三维曲面刻蚀加工结果及分析 | 第59-60页 |
| 4.4.1 GaAs表面复杂三维曲面加工的参数设计 | 第59页 |
| 4.4.2 GaAs表面刻蚀加工结果分析 | 第59-60页 |
| 4.5 本章小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
