| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-14页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状及发展趋势 | 第10-12页 |
| 1.3 研究目的及意义 | 第12页 |
| 1.4 研究内容概述 | 第12-13页 |
| 1.5 创新点 | 第13-14页 |
| 第2章 极紫外光刻系统的成像模型 | 第14-21页 |
| 2.1 Abbe光刻空间成像模型 | 第15-16页 |
| 2.2 考虑杂散光效应的光刻空间成像模型 | 第16页 |
| 2.3 考虑杂散光效应和光刻胶效应的光刻成像模型 | 第16-17页 |
| 2.4 掩模阴影效应模型 | 第17-20页 |
| 2.5 本章小结 | 第20-21页 |
| 第3章 极紫外光源-掩模优化算法 | 第21-37页 |
| 3.1 极紫外光源-掩模优化问题的数学模型 | 第21-27页 |
| 3.1.1 基于模块的掩模模型 | 第21-24页 |
| 3.1.2 参数化和像素化光源模型 | 第24-25页 |
| 3.1.3 SMO优化问题的目标函数 | 第25-27页 |
| 3.2 目标函数梯度计算方法 | 第27-29页 |
| 3.2.1 目标函数对掩模梯度的计算方法 | 第27-28页 |
| 3.2.2 目标函数对光源梯度的计算方法 | 第28-29页 |
| 3.3 光源-掩模优化算法流程 | 第29-36页 |
| 3.3.1 SMO算法主流程 | 第31-35页 |
| 3.3.2 SMO算法子流程 | 第35-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 仿真实验与分析 | 第37-52页 |
| 4.1 22nm技术节点的参数化和像素化SMO仿真结果分析 | 第37-43页 |
| 4.1.1 22nm技术节点参数化SMO仿真结果分析 | 第37-42页 |
| 4.1.2 22nm技术节点像素化SMO仿真结果分析 | 第42-43页 |
| 4.2 16nm技术节点的参数化和像素化SMO仿真结果分析 | 第43-48页 |
| 4.2.1 16nm技术节点参数化SMO仿真结果分析 | 第43-47页 |
| 4.2.2 16nm技术节点像素化SMO仿真结果分析 | 第47-48页 |
| 4.3 参数化SMO和像素化SMO仿真结果对比 | 第48-49页 |
| 4.4 掩模阴影效应补偿 | 第49-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-54页 |
| 附录A | 第54-56页 |
| 附录B | 第56-57页 |
| 附录C | 第57-58页 |
| 附录D | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读学位期间发表论文与研究成果清单 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
