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高数值孔径投影光刻物镜像质补偿策略与偏振像差研究

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第1章 绪论第14-50页
    1.1 课题研究背景及意义第14-33页
        1.1.1 集成电路第14-17页
        1.1.2 摩尔定律第17-19页
        1.1.3 投影光刻工艺第19-20页
        1.1.4 投影光刻机第20-33页
    1.2 国内外的发展现状第33-47页
        1.2.1 投影光刻物镜的像质补偿第33-43页
        1.2.2 投影光刻物镜的偏振像差第43-47页
    1.3 论文的主要研究内容和结构安排第47-50页
        1.3.1 论文主要研究内容第47-48页
        1.3.2 论文结构安排第48-50页
第2章 投影光刻物镜成像理论第50-78页
    2.1 投影光刻物镜的标量成像理论第51-52页
    2.2 标量像质评价方法第52-63页
        2.2.1 波像差第53-54页
        2.2.2 泽尼克圆多项式分解波像差第54-60页
        2.2.3 其他种类的泽尼克多项式第60-62页
        2.2.4 校准PSF质心畸变第62-63页
    2.3 投影光刻物镜的矢量成像理论第63-65页
    2.4 矢量像质评价方法第65-77页
        2.4.1 二向衰减第65-67页
        2.4.2 延迟第67-69页
        2.4.3 Jones矩阵的奇异值分解第69-71页
        2.4.4 方向泽尼克多项式第71-77页
    2.5 本章小结第77-78页
第3章 高NA投影光刻物镜标量像质补偿:一维公差第78-98页
    3.1 NA 1.35 投影光刻物镜设计结果第78-80页
    3.2 公差分类第80-83页
    3.3 光学复算第83-84页
    3.4 计算机辅助装调第84-91页
        3.4.1 计算机辅助装调的数学模型第85-87页
        3.4.2 补偿器的选择第87-88页
        3.4.3 计算机辅助装调仿真第88-91页
    3.5 面形精修第91-97页
        3.5.1 精修面的选择第92-93页
        3.5.2 面形精修的补偿能力第93-94页
        3.5.3 面形精修的数学模型第94-95页
        3.5.4 面形精修仿真第95-97页
    3.6 本章小结第97-98页
第4章 高NA投影光刻物镜标量像质补偿:二维公差第98-122页
    4.1 折射率均匀性公差的建模第98-102页
        4.1.1 干涉图表示折射率均匀性公差的不足第98-99页
        4.1.2 Zernike梯度折射率模型第99-102页
    4.2 折射率均匀性公差的补偿第102-108页
        4.2.1 旋转补偿的数学模型第103-105页
        4.2.2 仿真实验第105-108页
    4.3 热像差补偿第108-121页
        4.3.1 不同照明模式下的热像差第109-110页
        4.3.2 热像差的补偿方法第110-112页
        4.3.3 传统照明模式的热像差补偿第112-114页
        4.3.4 环形照明模式的热像差补偿第114-117页
        4.3.5 四极照明模式的热像差补偿第117-119页
        4.3.6 偶极照明模式的热像差补偿第119-121页
    4.4 本章小结第121-122页
第5章 高NA投影光刻物镜的偏振像差研究第122-146页
    5.1 NA 1.35 投影光刻物镜偏振像差的定量分析第122-126页
    5.2 偏振像差在视场上的分布规律第126-137页
        5.2.1 基本公式的推导第126-129页
        5.2.2 旋转对称的光学系统第129-132页
        5.2.3 M-fold光学系统第132-137页
    5.3 视场-方向Zernike多项式的仿真验证第137-144页
        5.3.1 仿真流程第137页
        5.3.2 旋转对称的投影光刻物镜第137-140页
        5.3.3 含CaF2材料的投影光刻物镜第140-142页
        5.3.4 显微物镜第142-144页
    5.4 本章小结第144-146页
第6章 总结与展望第146-148页
    6.1 工作总结第146-147页
    6.2 主要创新点第147页
    6.3 工作展望第147-148页
参考文献第148-158页
在学期间学术成果情况第158-160页
指导教师及作者简介第160-162页
致谢第162页

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