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纯锡覆层晶须生长及无铅焊点电迁移的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
1 绪论第10-35页
   ·电子封装及其可靠性第10-11页
   ·覆层锡须生长的研究进展第11-21页
   ·互连焊点电迁移的研究进展第21-34页
   ·本文主要研究内容第34-35页
2 试验方法与试验材料第35-47页
   ·锡须生长机理研究的试验方法与材料第35-40页
   ·电迁移研究的试验方法与材料第40-46页
   ·试验结果的测试、模拟和分析方法第46-47页
3 纯Sn 覆层在温度循环条件下的晶须生长机理研究第47-73页
   ·温度循环(TC)条件下的锡须生长第47-54页
   ·温度循环(TC)条件下的锡须生长机理第54-71页
   ·本章总结第71-73页
4 无铅焊点互连结构的电迁移试验和机理研究第73-93页
   ·高温(160℃)和高电流密度(2.2×10~4A/cm~2)下焊点的电迁移第73-82页
   ·室温(25℃)和较低电流密度(0.4×10~4A/cm~2)下焊点的电迁移第82-91页
   ·本章总结第91-93页
5 互连焊点的电迁移数值模拟与原子迁移驱动力分析第93-125页
   ·电迁移的电-热-结构耦合场数值模拟第93-111页
   ·电迁移的原子迁移驱动力分析第111-123页
   ·本章总结第123-125页
6 结论及创新点第125-129页
   ·主要研究结论第125-127页
   ·主要创新点第127-128页
   ·研究展望第128-129页
致谢第129-130页
参考文献第130-142页
附录1 攻读博士学位期间发表的论文第142-145页
附录2 攻读博士学位期间获得的奖励及荣誉第145页

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