首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--微电子学、集成电路(IC)论文--一般性问题论文--制造工艺论文

铜线键合在多印线IC封装中的应用研究

摘要第1-4页
Abstract第4-5页
引言第5-8页
第1章 课题背景与研究方法第8-10页
   ·丝球键合工艺简介第8-9页
   ·本课题的研究方法简介第9-10页
第2章 铜线键合封装技术的优劣第10-15页
   ·铜和金的性能比较第10-12页
   ·铜线在封装中的主要问题第12-15页
第3章 铜线键合问题的评估和解决第15-38页
   ·芯片铝垫结构的影响第15-19页
   ·对铜线烧球的参数实验第19-23页
   ·对铜线键合的参数实验第23-31页
   ·对铜铝IMC形成的参数实验第31-34页
   ·对良率和生产效率的评估第34-38页
第4章 可靠性和失效分析的评估第38-42页
   ·可靠性的评估和验证第38-39页
   ·针对铜线封装的失效分析方法第39-42页
第5章 未来发展的方向第42-43页
结论第43-44页
参考文献第44-45页
致谢第45-46页

论文共46页,点击 下载论文
上一篇:低介电常数介质膜对器件封装工艺的影响和封装工艺的优化
下一篇:量子逻辑电路的研究与设计