致谢 | 第1-4页 |
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 绪论 | 第10-22页 |
·研究背景 | 第10-11页 |
·吸收损耗类型 | 第11页 |
·吸收损耗测量技术及其国内外发展现状 | 第11-20页 |
·激光量热技术 | 第13-14页 |
·热透镜技术 | 第14-16页 |
·表面热透镜技术 | 第16-17页 |
·光热偏转技术 | 第17-19页 |
·光声光谱技术 | 第19-20页 |
·本论文的研究内容 | 第20-22页 |
第二章 激光量热法测量大口径光学元件吸收损耗的理论分析 | 第22-36页 |
·引言 | 第22页 |
·激光量热技术简介 | 第22-24页 |
·测量装置介绍 | 第22-23页 |
·均匀温度模型 | 第23-24页 |
·激光量热法测量大口径光学元件吸收损耗的理论模型 | 第24-28页 |
·温度场分布理论 | 第25-26页 |
·测量方法 | 第26-27页 |
·吸收损耗的计算方法 | 第27-28页 |
·样品温升模型的数值计算和有限元计算比较 | 第28-30页 |
·样品半无限近似下的温度场分布特性 | 第28-29页 |
·样品半无限大近似下温度模型的适用性 | 第29-30页 |
·样品无限大平板近似下的温度场分布特性 | 第30页 |
·测量灵敏度 | 第30-32页 |
·温度探测位置误差对测量结果的影响 | 第32-34页 |
·偏置误差对测量结果的影响 | 第33-34页 |
·间距测量误差对测量结果的影响 | 第34页 |
·本章小结 | 第34-36页 |
第三章 激光诱导偏转技术的定标误差分析 | 第36-66页 |
·引言 | 第36页 |
·测量原理介绍 | 第36-40页 |
·透明光学薄膜测量 | 第38页 |
·高反膜测量 | 第38-39页 |
·体吸收测量 | 第39-40页 |
·薄膜和体吸收同时测量 | 第40页 |
·定标方法介绍 | 第40-44页 |
·加热定标原理 | 第41-42页 |
·吸收损耗的计算 | 第42-44页 |
·样品的温升模型 | 第44-48页 |
·平顶光束激励下的温升模型 | 第45-48页 |
·电阻加热器激励下样品温升的有限元计算 | 第48页 |
·温度场分布特性 | 第48-54页 |
·薄膜吸收时样品的温度场分布 | 第48-52页 |
·体吸收时样品的温升分布 | 第52-54页 |
·激光诱导偏转信号 | 第54-59页 |
·薄膜吸收时的激光诱导偏转信号 | 第55-57页 |
·体吸收时的激光诱导偏转信号 | 第57-59页 |
·定标误差分析 | 第59-65页 |
·薄膜吸收测量的定标误差 | 第59-61页 |
·体吸收测量的定标误差 | 第61-62页 |
·新型电阻加热器的定标误差 | 第62-65页 |
·本章小结 | 第65-66页 |
第四章 光学元件的表面热变形理论 | 第66-76页 |
·引言 | 第66页 |
·热变形的基本理论 | 第66-70页 |
·连续调制激光激励下样品表面的热变形 | 第70-75页 |
·样品内的温度场分布 | 第70-71页 |
·薄膜对光学样品表面热变形的影响 | 第71-73页 |
·表面热变形的分布特性 | 第73-75页 |
·本章小结 | 第75-76页 |
第五章 表面热透镜技术测量灵敏度的提高方法 | 第76-85页 |
·引言 | 第76页 |
·表面热透镜技术理论基础 | 第76-79页 |
·高频调制激光激励下的表面热透镜信号 | 第77-79页 |
·低频调制激光激励下的表面热透镜信号 | 第79页 |
·表面热透镜实验 | 第79-83页 |
·实验装置 | 第80-81页 |
·实验结果和讨论 | 第81-83页 |
·本章小结 | 第83-85页 |
第六章 光热偏转技术的构型优化 | 第85-99页 |
·引言 | 第85页 |
·光热偏转技术的基本理论 | 第85-91页 |
·光热偏转技术的衍射理论 | 第86-88页 |
·构型优化理论 | 第88-89页 |
·构型优化的数值计算 | 第89-91页 |
·低频调制激光激励下光热偏转技术的构型优化 | 第91-97页 |
·光热偏转信号的理论模型 | 第91-92页 |
·实验装置 | 第92-81页 |
·实验结果和讨论 | 第81-97页 |
·本章小结 | 第97-99页 |
第七章 总结与展望 | 第99-101页 |
·论文主要工作 | 第99-100页 |
·论文创新点 | 第100页 |
·对后续工作的建议 | 第100-101页 |
参考文献 | 第101-112页 |
作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第112-113页 |