| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-33页 |
| ·课题研究背景及意义 | 第11-13页 |
| ·中高频面形误差的频段划分及其抑制技术的发展 | 第13-31页 |
| ·基于熵增原理抑制中高频误差 | 第15-18页 |
| ·伪随机加工路径法 | 第18-20页 |
| ·高频振动(Vibe)共形加工法 | 第20-22页 |
| ·离子束牺牲层法 | 第22-24页 |
| ·被动半刚性磨盘平滑中频误差 | 第24-28页 |
| ·Rigid Conformal磨盘平滑中频误差 | 第28-31页 |
| ·论文的组织结构及主要工作 | 第31-33页 |
| 第2章 可控柔度磨盘结构模型及其柔度可控机理模型 | 第33-47页 |
| ·引言 | 第33-34页 |
| ·磁流变材料研究及发展现状概述 | 第34-37页 |
| ·可控柔度磨盘结构模型及其柔度可控机理模型 | 第37-44页 |
| ·可控柔度磨盘结构模型 | 第39-40页 |
| ·磨盘柔度可控的微观机理模型 | 第40-42页 |
| ·磨盘柔度可控的宏观力学表现特性 | 第42-44页 |
| ·关键技术及难点分析 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第3章 可控柔度磨盘研制及实验研究 | 第47-63页 |
| ·可控柔度磨盘研制 | 第47-48页 |
| ·磁场发生器选材及磁场分布测量 | 第48-53页 |
| ·钕铁硼强磁体磁场发生器 | 第48-49页 |
| ·磁场测量原理 | 第49-50页 |
| ·磁场发生器磁场分布测量 | 第50-53页 |
| ·可控柔度磨盘抛光特性实验研究 | 第53-56页 |
| ·可控柔度磨盘抛光去除函数 | 第53-55页 |
| ·可控柔度磨盘抛光粗糙度 | 第55-56页 |
| ·可控柔度磨盘磁铁与磁流变液之间相互作用力测量 | 第56-60页 |
| ·本章小结 | 第60-63页 |
| 第4章CCOS抛光工艺平滑谱函数模型建立及实验验证 | 第63-80页 |
| ·概述 | 第63-64页 |
| ·36 项Zernike多项式描述误差的空间频率分析 | 第64-68页 |
| ·CCOS抛光工艺平滑谱函数模型建立 | 第68-71页 |
| ·CCOS抛光工艺平滑谱函数模型的实验验证 | 第71-76页 |
| ·实验误差分析与讨论 | 第76-78页 |
| ·本章小结 | 第78-80页 |
| 第5章 去除函数的平滑谱函数模型建立及实验验证 | 第80-95页 |
| ·引言 | 第80页 |
| ·去除函数的平滑谱函数模型建立 | 第80-86页 |
| ·模型建立方法一 | 第81-84页 |
| ·模型建立方法二 | 第84-86页 |
| ·去除函数的平滑谱函数模型的实验验证 | 第86-93页 |
| ·本章小结 | 第93-95页 |
| 第6章 平滑效率函数模型建立及实验研究 | 第95-103页 |
| ·引言 | 第95-96页 |
| ·平滑效率函数模型建立 | 第96-99页 |
| ·平滑效率实验研究结果 | 第99-102页 |
| ·本章小结 | 第102-103页 |
| 第7章 全文总结及展望 | 第103-108页 |
| ·全文总结 | 第103-106页 |
| ·研究展望 | 第106-108页 |
| 参考文献 | 第108-115页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第115-116页 |