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基于高压MOS功率器件的高压集成电路的研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-13页
   ·课题背景第7-8页
   ·功率集成电路发展概况第8-9页
   ·BCD集成电路技术的发展状况第9-10页
   ·本文研究的内容和意义第10页
   ·本文的主要工作第10-13页
第二章 高压MOS功率器件的研究第13-35页
   ·器件击穿的理论分析第13-15页
     ·碰撞电离第13页
     ·雪崩击穿第13-15页
   ·结终端技术第15-19页
     ·场板技术第16-17页
     ·场限环技术第17-18页
     ·RESURF技术第18-19页
   ·高压LDMOS器件结构第19-24页
     ·器件结构分析第19-21页
     ·Double RESRUF的电荷平衡第21-24页
   ·MEDICI使用简介第24-26页
     ·可分析的对象第24页
     ·物理模型第24页
     ·边界条件第24-25页
     ·仿真原理第25-26页
   ·器件耐压的二维仿真模拟及分析第26-31页
     ·漂移区长度的影响第27-28页
     ·栅极场板长度的影响第28-29页
     ·P降场层浓度的影响第29-30页
     ·P降场层长度的影响第30-31页
   ·器件导通电阻的分析第31-35页
第三章 电路设计与仿真第35-59页
   ·系统的组成及原理介绍第35-37页
   ·系统参数特征及设计指针第37页
   ·控制电路的设计第37-49页
     ·压控振荡器的设计第39-42页
     ·积分器的设计第42-44页
     ·比较器的设计第44-47页
     ·数字逻辑部分的设计第47-48页
     ·控制电路的模拟仿真第48-49页
   ·驱动电路的设计第49-59页
     ·信号处理电路的设计第50-51页
     ·电平位移电路第51-56页
     ·高、低压驱动级电路的设计第56-59页
第四章 工艺及版图设计第59-67页
   ·工艺设计第59-61页
     ·兼容工艺设计第59-60页
     ·高低压兼容工艺流程第60-61页
   ·版图设计第61-67页
     ·版图设计的步骤第61-62页
     ·版图设计的一般要求第62-63页
     ·部分版图第63-67页
第五章 总结与展望第67-69页
   ·总结第67页
   ·展望第67-69页
致谢第69-70页
参考文献第70-72页
作者在读期间的研究成果第72-73页
附录第73-76页

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