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SiC肖特基二极管模拟研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
1 绪论第7-14页
   ·研究背景与意义第7页
   ·国内外研究现状第7-9页
   ·SiC材料的结构和基本性质第9-12页
     ·SiC材料的晶格结构第9-10页
     ·SiC的基本性质第10-12页
   ·肖特基二极管第12-13页
   ·本文的主要研究内容第13-14页
2 肖特基二极管的基本原理第14-23页
   ·肖特基势垒第14页
   ·肖特基二极管基本结构第14页
   ·金属半导休接触整流理论第14-15页
   ·扩散理论第15-19页
   ·热电子发射理论第19-23页
3 仿真物理模型第23-27页
   ·器件仿真物理模型第23-27页
     ·基本的物理模型方程第23页
     ·SiC肖特基二极管物理模型第23-27页
4 仿真的实现第27-39页
   ·仿真工具第27-31页
     ·Mdraw器件结构编辑工具第28-29页
     ·Mesh器件网格编辑工具第29页
     ·Dessis器件综合编辑工具第29-30页
     ·Gensise流程设计平台第30-31页
   ·W/SiC肖特基二极管伏-安特性的仿真第31-35页
     ·不同温度条件下仿真第34页
     ·不同浓度条件下仿真第34-35页
     ·不同外延层厚度条件下仿真第35页
     ·反向击穿仿真第35页
   ·P-N结二极管伏-安特性的仿真第35页
   ·Au/SiC肖特基二极管伏-安特性的仿真第35-39页
5 仿真结果及讨论第39-50页
   ·W/SiC肖特基二极管伏-安特性模拟第39-48页
     ·不同温度条件第39-43页
     ·不同浓度条件第43-46页
     ·不同外延层厚度第46-47页
     ·反向击穿模拟第47-48页
   ·W/SiC SBD与P-N结二极管的比较第48-49页
   ·W/SiC与Au/SiC SBD的比较第49-50页
6 结论第50-51页
参考文献第51-55页
攻读硕士学位期间发表的论文第55-56页
致谢第56-58页

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