| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 前言 | 第9-28页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·场发射显示器原理及常用阴极材料 | 第10-16页 |
| ·场发射显示器原理 | 第10-11页 |
| ·场致发射阴极材料 | 第11-16页 |
| ·氧化锌的场发射特性 | 第16-26页 |
| ·氧化锌概述 | 第16-18页 |
| ·氧化锌的光学特性 | 第18-19页 |
| ·氧化锌的场发射性能研究进展 | 第19-22页 |
| ·氧化锌的掺杂及其场发射性能 | 第22-24页 |
| ·四针状氧化锌晶须及其场发射性能 | 第24-26页 |
| ·本论文的研究目的及意义 | 第26-28页 |
| 第二章 场致电子发射理论 | 第28-41页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·金属的场致电子发射 | 第28-33页 |
| ·半导体的场致电子发射 | 第33-38页 |
| ·场致发射面临的关键问题 | 第38-41页 |
| 第三章 四针状氧化锌晶须的场发射性能 | 第41-46页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验部分 | 第41-43页 |
| ·实验原料 | 第41页 |
| ·测试装置及评价参数 | 第41-43页 |
| ·结果与讨论 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 Al~(3+)掺杂T-ZnOw及其光谱特性 | 第46-63页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·实验部分 | 第46-47页 |
| ·原料 | 第46页 |
| ·样品制备 | 第46页 |
| ·表征与分析 | 第46-47页 |
| ·结果与讨论 | 第47-62页 |
| ·形貌结构分析 | 第47-54页 |
| ·光谱特性 | 第54-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 Al~(3+)掺杂对T-ZnOw场发射性能的影响 | 第63-75页 |
| ·引言 | 第63页 |
| ·实验 | 第63-65页 |
| ·T-ZnOw冷阴极的制作 | 第63-64页 |
| ·表征与分析 | 第64-65页 |
| ·结果与讨论 | 第65-74页 |
| ·薄膜样品的形貌分析 | 第65-66页 |
| ·薄膜样品的结构与物相分析 | 第66页 |
| ·T-ZnOw膜的场发射性能研究 | 第66-68页 |
| ·Al~(3+)掺杂对T-ZnOw场发射性能的影响 | 第68-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 第六章 结论与展望 | 第75-77页 |
| ·结论 | 第75页 |
| ·展望 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第88页 |
