摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-24页 |
1.1 DNA 金属化的研究现状 | 第11-13页 |
1.2 基于DNA 的模板金属化 | 第13-22页 |
1.2.1 DNA 模板金属化基本原理 | 第13-15页 |
1.2.2 完整的DNA 金属纳米线的生长 | 第15-17页 |
1.2.3 DNA 上选择性区域金属纳米线的生长 | 第17-19页 |
1.2.4 减少非特定沉积的DNA 金属化工艺 | 第19-20页 |
1.2.5 蒸发干燥法的金属化工艺 | 第20-22页 |
1.3 本课题的研究意义 | 第22页 |
1.4 本文的系统构架和主要研究内容 | 第22-24页 |
第二章 DNA 的拉伸排列 | 第24-42页 |
2.1 DNA 拉伸方法研究现状 | 第24-28页 |
2.1.1 分子梳法 | 第25页 |
2.1.2 动态分子梳法 | 第25-26页 |
2.1.3 离心法 | 第26-27页 |
2.1.4 Langmuir-Blodgett(LB)膜拉伸法 | 第27-28页 |
2.2 衬底的处理工艺选择 | 第28-32页 |
2.2.1 实验试剂与仪器 | 第29页 |
2.2.2 实验过程 | 第29-30页 |
2.2.3 衬底处理实验结果讨论 | 第30-32页 |
2.3 DNA 拉伸工艺比较 | 第32-38页 |
2.3.1 实验试剂与仪器 | 第32页 |
2.3.2 拉伸实验过程 | 第32-33页 |
2.3.3 拉伸工艺结果讨论 | 第33-38页 |
2.4 不同浓度DNA PARAFILM 斜向拉伸结果讨论 | 第38-41页 |
2.4.1 0.1mg/L DNA 拉伸图形 | 第38页 |
2.4.2 0.5mg/L DNA 拉伸图形 | 第38-39页 |
2.4.3 1mg/L DNA 拉伸图形 | 第39-41页 |
2.5 小结 | 第41-42页 |
第三章 DNA 的金属化制备工艺 | 第42-60页 |
3.1 DNA 的金属化现状 | 第42-43页 |
3.2 DNA 银金属化制备工艺 | 第43-46页 |
3.2.1 衬底的处理工艺选择 | 第43-44页 |
3.2.2 衬底处理结果与讨论 | 第44-46页 |
3.3 不同浓度下DNA 银金属化实验结果讨论 | 第46-52页 |
3.3.1 0.1mg/L DNA 银金属化 | 第46-50页 |
3.3.2 1mg/L DNA 银金属化AFM 图形 | 第50-52页 |
3.4 DNA 铜金属化工艺流程 | 第52-55页 |
3.4.1 衬底的处理工艺选择 | 第52-53页 |
3.4.2 衬底处理结果讨论 | 第53-55页 |
3.5 不同浓度DNA 铜金属化实验结果讨论 | 第55-58页 |
3.5.1 0.3mg/L 的DNA 铜金属化 | 第55-56页 |
3.5.2 0.8mg/L 的DNA 铜金属化 | 第56-57页 |
3.5.3 1mg/L 的DNA 铜金属化 | 第57-58页 |
3.6 小结 | 第58-60页 |
第四章DNA 金属化相关电学特性研究 | 第60-74页 |
4.1 DNA 电学性质研究现状 | 第60-62页 |
4.1.1 DNA 分子自身导电性 | 第60页 |
4.1.2 间接测量 | 第60-61页 |
4.1.3 直接测量 | 第61-62页 |
4.2 DNA 金属化电学特性研究现状 | 第62-67页 |
4.3 DNA 金属化I-V 特性测试步骤 | 第67-70页 |
4.3.1 实验仪器 | 第67页 |
4.3.2 电极的制备过程 | 第67-69页 |
4.3.3 电学测试原理图 | 第69-70页 |
4.4 银金属化后I-V 电学特性测试结果讨论 | 第70-73页 |
4.4.1 同一浓度DNA 银金属化前后电学特性对比 | 第70-71页 |
4.4.2 不同浓度DNA 银金属化电学特性对比 | 第71-73页 |
4.5 小结 | 第73-74页 |
第五章 结论与展望 | 第74-77页 |
5.1 主要工作与结论 | 第74-75页 |
5.2 展望 | 第75-77页 |
参考文献 | 第77-82页 |
致谢 | 第82-83页 |
硕士学位期间发表的学术论文目录 | 第83页 |