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DNA金属化及其相关电学特性研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第11-24页
    1.1 DNA 金属化的研究现状第11-13页
    1.2 基于DNA 的模板金属化第13-22页
        1.2.1 DNA 模板金属化基本原理第13-15页
        1.2.2 完整的DNA 金属纳米线的生长第15-17页
        1.2.3 DNA 上选择性区域金属纳米线的生长第17-19页
        1.2.4 减少非特定沉积的DNA 金属化工艺第19-20页
        1.2.5 蒸发干燥法的金属化工艺第20-22页
    1.3 本课题的研究意义第22页
    1.4 本文的系统构架和主要研究内容第22-24页
第二章 DNA 的拉伸排列第24-42页
    2.1 DNA 拉伸方法研究现状第24-28页
        2.1.1 分子梳法第25页
        2.1.2 动态分子梳法第25-26页
        2.1.3 离心法第26-27页
        2.1.4 Langmuir-Blodgett(LB)膜拉伸法第27-28页
    2.2 衬底的处理工艺选择第28-32页
        2.2.1 实验试剂与仪器第29页
        2.2.2 实验过程第29-30页
        2.2.3 衬底处理实验结果讨论第30-32页
    2.3 DNA 拉伸工艺比较第32-38页
        2.3.1 实验试剂与仪器第32页
        2.3.2 拉伸实验过程第32-33页
        2.3.3 拉伸工艺结果讨论第33-38页
    2.4 不同浓度DNA PARAFILM 斜向拉伸结果讨论第38-41页
        2.4.1 0.1mg/L DNA 拉伸图形第38页
        2.4.2 0.5mg/L DNA 拉伸图形第38-39页
        2.4.3 1mg/L DNA 拉伸图形第39-41页
    2.5 小结第41-42页
第三章 DNA 的金属化制备工艺第42-60页
    3.1 DNA 的金属化现状第42-43页
    3.2 DNA 银金属化制备工艺第43-46页
        3.2.1 衬底的处理工艺选择第43-44页
        3.2.2 衬底处理结果与讨论第44-46页
    3.3 不同浓度下DNA 银金属化实验结果讨论第46-52页
        3.3.1 0.1mg/L DNA 银金属化第46-50页
        3.3.2 1mg/L DNA 银金属化AFM 图形第50-52页
    3.4 DNA 铜金属化工艺流程第52-55页
        3.4.1 衬底的处理工艺选择第52-53页
        3.4.2 衬底处理结果讨论第53-55页
    3.5 不同浓度DNA 铜金属化实验结果讨论第55-58页
        3.5.1 0.3mg/L 的DNA 铜金属化第55-56页
        3.5.2 0.8mg/L 的DNA 铜金属化第56-57页
        3.5.3 1mg/L 的DNA 铜金属化第57-58页
    3.6 小结第58-60页
第四章DNA 金属化相关电学特性研究第60-74页
    4.1 DNA 电学性质研究现状第60-62页
        4.1.1 DNA 分子自身导电性第60页
        4.1.2 间接测量第60-61页
        4.1.3 直接测量第61-62页
    4.2 DNA 金属化电学特性研究现状第62-67页
    4.3 DNA 金属化I-V 特性测试步骤第67-70页
        4.3.1 实验仪器第67页
        4.3.2 电极的制备过程第67-69页
        4.3.3 电学测试原理图第69-70页
    4.4 银金属化后I-V 电学特性测试结果讨论第70-73页
        4.4.1 同一浓度DNA 银金属化前后电学特性对比第70-71页
        4.4.2 不同浓度DNA 银金属化电学特性对比第71-73页
    4.5 小结第73-74页
第五章 结论与展望第74-77页
    5.1 主要工作与结论第74-75页
    5.2 展望第75-77页
参考文献第77-82页
致谢第82-83页
硕士学位期间发表的学术论文目录第83页

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