| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 致谢 | 第8-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-19页 |
| ·MEMS 技术简介 | 第12-14页 |
| ·MEMS CAD 介绍 | 第14-17页 |
| ·SU-8 胶的主要成分 | 第17-18页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第18页 |
| ·本论文的课题来源 | 第18页 |
| ·本文的内容结构 | 第18-19页 |
| 第二章 SU-8 胶的应用 | 第19-25页 |
| ·LIGA 技术 | 第19-21页 |
| ·SU-8 胶的主要应用 | 第21-25页 |
| 第三章 SU-8 胶光刻理论 | 第25-34页 |
| ·光刻基础理论 | 第25-26页 |
| ·光刻对比度 | 第25-26页 |
| ·溶胀的基础理论 | 第26页 |
| ·常见的曝光系统 | 第26-30页 |
| ·光刻模型的建立 | 第30-34页 |
| ·衍射模型 | 第30-31页 |
| ·曝光模型 | 第31-32页 |
| ·后烘与显影模型 | 第32-34页 |
| 第四章 现有模型算法及应用于 3D 线算法的显影建模 | 第34-41页 |
| ·元胞自机动模型 | 第34-38页 |
| ·二维 CA 模型 | 第34-37页 |
| ·三维 CA 模型 | 第37-38页 |
| ·线算法模型 | 第38-39页 |
| ·线算法与元胞算法的对比 | 第39-41页 |
| 第五章 SU-8 胶光刻技术的三维仿真模拟及结果讨论 | 第41-52页 |
| ·基于线算法的 3D 显影模型 | 第41-42页 |
| ·SU-8 胶模拟仿真结果 | 第42-46页 |
| ·衍衍射效应与与丙三醇补补偿办法 | 第46-50页 |
| ·其它图形仿真结果 | 第50-51页 |
| ·总结 | 第51-52页 |
| 第六章 总结与展望 | 第52-53页 |
| ·本论文主要工作总结 | 第52页 |
| ·本课题工作展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第57-58页 |