| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-35页 |
| 1．1 多孔硅的历史、背景及应用前景 | 第8-10页 |
| 1．2 多孔硅的研究现状 | 第10-26页 |
| 1．2．1 多孔硅的制备方法 | 第10-12页 |
| 1．2．2 多孔硅的表面钝化技术 | 第12-15页 |
| 1．2．3 多孔硅的后处理技术 | 第15页 |
| 1．2．4 多孔硅的形成 | 第15-20页 |
| 1．2．5 多孔硅的结构 | 第20-21页 |
| 1．2．6 多孔硅的光致发光 | 第21-24页 |
| 1．2．7 多孔硅技术应用中存在的问题及开题思想 | 第24-26页 |
| 第一章参考文献 | 第26-35页 |
| 第二章 金属钝化多孔硅的制备、表面形貌和发光特性 | 第35-59页 |
| 2．1 金属钝化多孔硅概念的提出 | 第35-36页 |
| 2．2 金属钝化多孔硅的制备 | 第36-37页 |
| 2．3 金属钝化多孔硅的表面形貌和发光特性 | 第37-56页 |
| 2．3．1 Ni钝化多孔硅的表面形貌和发光特性 | 第37-43页 |
| 2．3．2 Mn钝化多孔硅的表面形貌和发光特性 | 第43-46页 |
| 2．3．3 Co钝化多孔硅的表面形貌和发光特性 | 第46-51页 |
| 2．3．4 Fe钝化多孔硅的表面形貌和发光特性 | 第51-56页 |
| 2．4 小结 | 第56-58页 |
| 第二章参考文献 | 第58-59页 |
| 第三章 水热腐蚀制备氢钝化多孔硅的研究 | 第59-75页 |
| 3．1 用（111）取向的硅片制备的氢钝化多孔硅表面形貌和发光 | 第59-66页 |
| 3．2 用（100）取向的硅片制备的氢钝化多孔硅表面相貌和发光 | 第66-68页 |
| 3．3 蓝光发射多孔硅RTO过程中尺寸分离效应 | 第68-73页 |
| 3．4 小结 | 第73-74页 |
| 第三章参考文献 | 第74-75页 |
| 第四章 结论 | 第75-77页 |
| 附录： 在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |