煮糖过程的建模与控制
| 第1章 绪论 | 第1-16页 |
| ·制糖工业的发展状况 | 第11页 |
| ·煮糖结晶过程 | 第11-14页 |
| ·晶核的形成 | 第11-12页 |
| ·晶核的增大 | 第12页 |
| ·过饱和度与结晶速度的联系 | 第12-13页 |
| ·过饱和度系数的测定 | 第13-14页 |
| ·本文的主要工作 | 第14页 |
| ·本文的框架 | 第14-16页 |
| 第2章 数学建模技术概述 | 第16-21页 |
| ·数学模型 | 第17页 |
| ·数学建模 | 第17-20页 |
| ·数学建模的定义 | 第18页 |
| ·数学建模的过程 | 第18页 |
| ·数学建模的要求和方法 | 第18-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第3章 制糖工艺过程 | 第21-33页 |
| ·蔗糖生产过程 | 第21-23页 |
| ·提汁 | 第21-22页 |
| ·澄清 | 第22页 |
| ·蒸发与加热 | 第22页 |
| ·煮炼 | 第22-23页 |
| ·分段煮糖原理 | 第23-24页 |
| ·煮糖过程的工艺要求 | 第24-27页 |
| ·对入料次序的要求 | 第24-25页 |
| ·对晶体的要求 | 第25页 |
| ·对使用原料的质量要求 | 第25-27页 |
| ·煮糖过程 | 第27-33页 |
| ·煮糖设备 | 第27-28页 |
| ·煮糖操作原则 | 第28-30页 |
| ·煮糖操作基本过程 | 第30-33页 |
| 第4章 蔗糖结晶原理 | 第33-48页 |
| ·糖液中晶核的形成 | 第33-34页 |
| ·蔗糖晶体的长大 | 第34-35页 |
| ·影响蔗糖结晶的主要因素 | 第35-36页 |
| ·蔗糖结晶生长动力学 | 第36-41页 |
| ·晶体生长的扩散学说 | 第36-37页 |
| ·蔗糖晶体的生长速度 | 第37-40页 |
| ·与粒度相关的晶体生长 | 第40页 |
| ·与粒度无关的晶体生长 | 第40页 |
| ·生长分散 | 第40-41页 |
| ·蔗糖溶解度与饱和系数的关系 | 第41-42页 |
| ·过饱和度系数 | 第42-48页 |
| ·过饱和系数的测定 | 第42-45页 |
| ·过饱和曲线 | 第45-48页 |
| 第5章 煮糖过程建模 | 第48-63页 |
| ·典型的煮糖模型 | 第48-52页 |
| ·Doucet和Giddey的工作 | 第48-49页 |
| ·Wright和White的工作 | 第49页 |
| ·Evans等的工作 | 第49-50页 |
| ·Wright的工作 | 第50页 |
| ·Frew的工作 | 第50-51页 |
| ·Broadfoot的工作 | 第51页 |
| ·Wilson的工作 | 第51页 |
| ·Schneider的工作 | 第51-52页 |
| ·煮糖建模分析 | 第52-62页 |
| ·物料平衡 | 第52-53页 |
| ·生长速度 | 第53-54页 |
| ·蔗糖溶解度和过饱和度的计算公式 | 第54-56页 |
| ·晶体粒度分布 | 第56-59页 |
| ·煮糖过程模型结构 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第6章 煮糖过程模型验证及控制 | 第63-77页 |
| ·模型验证 | 第63-69页 |
| ·模型运行结果 | 第63-66页 |
| ·各种蒸发率下程序运行结果 | 第66-67页 |
| ·各种糖浆流量下程序运行结果 | 第67-68页 |
| ·各种入料糖浆纯度下程序运行结果 | 第68-69页 |
| ·煮糖过程模型仿真及控制 | 第69-77页 |
| ·PID控制原理 | 第69-73页 |
| ·煮糖结晶过程的PID控制 | 第73-77页 |
| 第7章 结束语 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-82页 |
| 致谢与声明 | 第82-83页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第83页 |
