| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-23页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·NO_x治理途径 | 第9-15页 |
| ·NO_x的催化分解 | 第9-12页 |
| ·NO_x的催化还原 | 第12-15页 |
| ·蒙脱土及交联蒙脱土的研究 | 第15-19页 |
| ·蒙脱土的矿物学特征 | 第15-17页 |
| ·蒙脱土的晶体结构及晶体化学 | 第15-16页 |
| ·八面体片、四面体片及离子占位 | 第16页 |
| ·层间域及层的堆垛 | 第16-17页 |
| ·层电荷和有序度 | 第17页 |
| ·蒙脱石的化学组成 | 第17页 |
| ·交联蒙脱土的制备及研究进展 | 第17-19页 |
| ·交联蒙脱土的制备 | 第17-18页 |
| ·交联蒙脱土多孔材料的发展 | 第18-19页 |
| ·催化剂及催化载体 | 第19页 |
| ·论文选题思路和主要内容 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-23页 |
| 第二章 催化剂制备及其催化性能的研究 | 第23-43页 |
| ·实验部分 | 第23-28页 |
| ·化学试剂与实验仪器 | 第23-25页 |
| ·载体及催化剂的制备 | 第25-26页 |
| ·交联蒙脱土的制备 | 第25页 |
| ·交联蒙脱土的改性 | 第25页 |
| ·Cu基SO_4~(2-)／Al-PILM催化剂的制备 | 第25-26页 |
| ·Cu基SO_4~(2-)／Zr-PILM催化剂的制备 | 第26页 |
| ·Cu基SO_4~(2-)／TI-PILM催化剂的制备 | 第26页 |
| ·催化剂的活性性评价 | 第26-28页 |
| ·催化剂的活性测定方法 | 第26-27页 |
| ·实验装置 | 第27页 |
| ·实验步骤 | 第27-28页 |
| ·制备条件的研究 | 第28-34页 |
| ·载体性质对催化剂活性的影响 | 第28-29页 |
| ·交联剂种类的考察 | 第29-30页 |
| ·交联剂用量对催化活性的影响 | 第30-31页 |
| ·Ti／H_2O对催化剂活性的影响 | 第31-32页 |
| ·交联温度对催化剂活性的影响 | 第32页 |
| ·焙烧温度对催化剂活性的影响 | 第32-33页 |
| ·铜负载量对催化剂活性的影响 | 第33-34页 |
| ·催化剂的物化性能表征 | 第34-40页 |
| ·低角XRD分析 | 第34-35页 |
| ·催化剂的比表面积和孔径分布分析 | 第35-38页 |
| ·XPS分析 | 第38-39页 |
| ·表面形貌(SEM)分析 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-43页 |
| 第三章 SO_4~(2-)改性铜基钛交联蒙脱土催化剂的研究 | 第43-56页 |
| ·Cu基SO_4~(2-)／Ti-PILM催化剂的制备 | 第43页 |
| ·酸改性及SO_4~(2-)用量对催化活性的影响 | 第43-44页 |
| ·SO_4~(2-)引入对催化剂物化性能的影响 | 第44-54页 |
| ·热重分析(TG)分析 | 第44-46页 |
| ·吡啶吸附红外光谱(Py-IR)分析 | 第46-47页 |
| ·程序升温脱附法(TPD)分析 | 第47-48页 |
| ·FT-IR分析 | 第48-50页 |
| ·XPS分析 | 第50-51页 |
| ·催化剂的比表面积和孔径分布分析 | 第51-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 第四章 稀土元素Ce改性Cu／SO_4~(2-)／Ti-PILM的研究 | 第56-74页 |
| ·Cu／SO_4~(2-)／Ti-PILM催化剂的制备及反应性能评价 | 第56-63页 |
| ·Cu／SO_4~(2-)／Ti-PILM催化剂的制备 | 第56-57页 |
| ·Ce改性对催化活性的影响 | 第57页 |
| ·Ce添加方式对Cu／SO_4~(2-)／Ti-PILM催化剂活性的影响 | 第57-58页 |
| ·反应条件对催化剂活性的影响 | 第58-63页 |
| ·催化剂活化条件对催化性能的影响 | 第58-59页 |
| ·反应气中氧气浓度的影响 | 第59-60页 |
| ·反应空速对催化剂活性的影响 | 第60-61页 |
| ·反应气中丙烯浓度影响 | 第61-62页 |
| ·反应气中水蒸汽的影响 | 第62-63页 |
| ·Cu／Ce／SO_4~(2-)／Ti-PILM催化剂的物化性能表征 | 第63-71页 |
| ·低角XRD分析 | 第63-64页 |
| ·差热分析(DTA)分析 | 第64-65页 |
| ·比表面积和孔径分布分析 | 第65-66页 |
| ·氨程序升温脱附(NH_3-TPD)分析 | 第66-67页 |
| ·广角XRD测试分析 | 第67-68页 |
| ·表面形貌(SEM)分析 | 第68页 |
| ·程序升温还原(TPR)分析 | 第68-70页 |
| ·XPS分析 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 结论 | 第74-75页 |
| 附录 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
