浸没光刻机浸液流场密封气体温控技术研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第9-11页 |
| 1.2 浸没式光刻技术及其研究现状 | 第11-15页 |
| 1.3 高精度气体温度控制技术概述 | 第15-18页 |
| 1.4 本文的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 2 需求分析及总体方案设计 | 第19-28页 |
| 2.1 气体温控需求分析 | 第19-24页 |
| 2.2 总体方案设计 | 第24-27页 |
| 2.3 本章小结 | 第27-28页 |
| 3 气体温控详细技术方案设计与分析 | 第28-52页 |
| 3.1 初步技术路线选择 | 第28-30页 |
| 3.2 详细技术方案设计 | 第30-35页 |
| 3.3 循环回路系统分析 | 第35-41页 |
| 3.4 技术方案优化设计 | 第41-43页 |
| 3.5 关键元器件参数计算及选型 | 第43-51页 |
| 3.6 本章小结 | 第51-52页 |
| 4 气体温控装置的详细设计 | 第52-67页 |
| 4.1 电气控制系统设计 | 第52-60页 |
| 4.2 机械结构设计 | 第60-66页 |
| 4.3 本章小结 | 第66-67页 |
| 5 温控算法设计及仿真验证 | 第67-90页 |
| 5.1 物理对象参数化建模 | 第67-70页 |
| 5.2 气体温度控制结构建立 | 第70-74页 |
| 5.3 气体温度控制算法设计 | 第74-84页 |
| 5.4 算法仿真测试 | 第84-89页 |
| 5.5 本章小结 | 第89-90页 |
| 6 全文总结与展望 | 第90-92页 |
| 6.1 全文总结 | 第90-91页 |
| 6.2 研究展望 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-95页 |
