| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 文献综述 | 第10-26页 |
| 1.1 太阳能光伏行业状况 | 第10-11页 |
| 1.2 多晶硅的发展 | 第11-13页 |
| 1.2.1 国外多晶硅的发展状况 | 第11-12页 |
| 1.2.2 国内多晶硅的发展状况 | 第12-13页 |
| 1.3 多晶硅生产工艺 | 第13-16页 |
| 1.3.1 硅烷热分解法 | 第13页 |
| 1.3.2 流化床法 | 第13-14页 |
| 1.3.3 冶金法 | 第14页 |
| 1.3.4 汽-液沉积法 | 第14页 |
| 1.3.5 改良西门子法 | 第14-16页 |
| 1.4 多晶硅的性质及分类标准 | 第16-18页 |
| 1.4.1 多晶硅性质 | 第16页 |
| 1.4.2 多晶硅分类 | 第16-17页 |
| 1.4.3 多晶硅质量标准 | 第17-18页 |
| 1.5 多晶硅外观质量及影响因素分析 | 第18-21页 |
| 1.5.1 温度效应 | 第18-19页 |
| 1.5.2 扩散效应 | 第19-20页 |
| 1.5.3 夹层问题 | 第20-21页 |
| 1.6 难处理料形成原因 | 第21-22页 |
| 1.7 碳头料形成原因 | 第22-24页 |
| 1.8 多晶硅产品质量对铸锭的影响 | 第24-25页 |
| 1.9 本文研究的目的及内容 | 第25-26页 |
| 第2章 难处理料清洗实验 | 第26-46页 |
| 2.1 实验原料及试剂 | 第27页 |
| 2.2 实验设备 | 第27-28页 |
| 2.3 检测仪器及方法 | 第28-30页 |
| 2.3.1 多晶硅表金属杂质含量检测方法 | 第28-29页 |
| 2.3.2 多晶方锭少子寿命检测方法 | 第29页 |
| 2.3.3 多晶方锭电阻率检测方法 | 第29-30页 |
| 2.4 实验工艺流程及主体设备 | 第30-34页 |
| 2.4.1 实验工艺流程 | 第30页 |
| 2.4.2 实验主体设备 | 第30-34页 |
| 2.5 实验原理 | 第34页 |
| 2.6 实验过程 | 第34-35页 |
| 2.7 实验结果讨论 | 第35-44页 |
| 2.7.1 碱液浓度对多晶硅外观特征的影响 | 第35-37页 |
| 2.7.2 混酸比例对多晶硅外观特征的影响 | 第37-39页 |
| 2.7.3 纯水冲洗次数对硅料pH值的影响 | 第39-40页 |
| 2.7.4 超声洗涤时间对硅料表金属杂质含量的影响 | 第40-41页 |
| 2.7.5 甩干时间对硅料表金属杂质含量的影响 | 第41页 |
| 2.7.6 清洗前后难处理料表金属杂质含量对比 | 第41-42页 |
| 2.7.7 清洗后难处理料使用效果分析 | 第42-44页 |
| 2.8 本章小结 | 第44-46页 |
| 第3章 碳头料清洗实验 | 第46-60页 |
| 3.1 实验原料及试剂 | 第46-47页 |
| 3.2 实验设备 | 第47页 |
| 3.3 实验原理 | 第47-48页 |
| 3.4 实验方案及结果讨论 | 第48-58页 |
| 3.4.1 不同HNO_3与H_2SO_4混酸比例对石墨分离效果的影响 | 第48页 |
| 3.4.2 HNO_3与H_2SO_4混酸对不同类型碳头料的影响 | 第48-50页 |
| 3.4.3 体积比 1:4 的HF和HNO_3混酸对碳头料的影响 | 第50-52页 |
| 3.4.4 体积比 1:4 的HF和HNO_3混酸对经过预处理碳头料的影响 | 第52-54页 |
| 3.4.5 纯水冲洗次数对碳头料pH值的影响 | 第54页 |
| 3.4.6 超声洗涤时间对碳头料表金属杂质含量的影响 | 第54-55页 |
| 3.4.7 清洗前后碳头料结构分析 | 第55-56页 |
| 3.4.8 清洗前后碳头料表金属杂质含量对比 | 第56-57页 |
| 3.4.9 清洗后碳头料的使用效果分析 | 第57-58页 |
| 3.5 本章小结 | 第58-60页 |
| 第4章 结论与展望 | 第60-64页 |
| 4.1 论文结论 | 第60-61页 |
| 4.2 论文展望 | 第61-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 发表论文和参加科研情况 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
