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元素半导体硅和锗材料的熔体结构研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 绪论第9-15页
   ·选题背景及研究意义第9-11页
   ·熔体结构的实验研究第11-12页
     ·实验方法第11页
     ·实验研究现状第11-12页
   ·熔体结构的分子动力学模拟方法第12-14页
     ·模拟方法第12-13页
     ·模拟研究现状第13-14页
   ·本文的主要研究内容第14-15页
第二章 理论基础和实验方法第15-24页
   ·X 射线衍射实验的理论基础第15-16页
   ·高温X 射线衍射实验简介第16-17页
   ·分子动力学方法简介第17-22页
     ·引言第17页
     ·分子动力学方法的基本原理第17-18页
     ·分子动力学模拟的基本步骤第18-22页
   ·本文所使用的计算模拟方法第22-24页
第三章 元素半导体硅材料的熔体结构研究第24-46页
   ·引言第24页
   ·研究方法第24-26页
     ·实验方法第24-25页
     ·计算模拟方法第25-26页
   ·实验结果与分析第26-32页
   ·计算结果与分析第32-45页
     ·SW 势函数下的分子动力学模拟计算与分析第32-36页
     ·Tersoff 势函数下的分子动力学模拟计算与分析第36-45页
   ·小结第45-46页
第四章 元素半导体锗材料的熔体结构研究第46-56页
   ·引言第46页
   ·研究方法第46-47页
   ·计算结果与分析第47-54页
   ·小结第54-56页
第五章 结论第56-57页
参考文献第57-60页
致谢第60页

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