摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-15页 |
·选题背景及研究意义 | 第9-11页 |
·熔体结构的实验研究 | 第11-12页 |
·实验方法 | 第11页 |
·实验研究现状 | 第11-12页 |
·熔体结构的分子动力学模拟方法 | 第12-14页 |
·模拟方法 | 第12-13页 |
·模拟研究现状 | 第13-14页 |
·本文的主要研究内容 | 第14-15页 |
第二章 理论基础和实验方法 | 第15-24页 |
·X 射线衍射实验的理论基础 | 第15-16页 |
·高温X 射线衍射实验简介 | 第16-17页 |
·分子动力学方法简介 | 第17-22页 |
·引言 | 第17页 |
·分子动力学方法的基本原理 | 第17-18页 |
·分子动力学模拟的基本步骤 | 第18-22页 |
·本文所使用的计算模拟方法 | 第22-24页 |
第三章 元素半导体硅材料的熔体结构研究 | 第24-46页 |
·引言 | 第24页 |
·研究方法 | 第24-26页 |
·实验方法 | 第24-25页 |
·计算模拟方法 | 第25-26页 |
·实验结果与分析 | 第26-32页 |
·计算结果与分析 | 第32-45页 |
·SW 势函数下的分子动力学模拟计算与分析 | 第32-36页 |
·Tersoff 势函数下的分子动力学模拟计算与分析 | 第36-45页 |
·小结 | 第45-46页 |
第四章 元素半导体锗材料的熔体结构研究 | 第46-56页 |
·引言 | 第46页 |
·研究方法 | 第46-47页 |
·计算结果与分析 | 第47-54页 |
·小结 | 第54-56页 |
第五章 结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-60页 |
致谢 | 第60页 |