廉价衬底上PECVD法制备非晶硅薄膜的工艺研究

摘要	第1-5页
ABSTRACT	第5-9页
第一章 绪论	第9-18页
·太阳能电池的发展历史及趋势	第9-11页
·太阳能电池的研究背景	第9-10页
·太阳能电池的发展趋势	第10-11页
·非晶硅薄膜的特性及应用	第11-16页
·非晶硅薄膜的结构及特性	第11-13页
·非晶硅的光致衰退效应	第13-14页
·非晶硅薄膜的应用	第14-16页
·本文主要研究内容	第16-18页
第二章 PECVD 法及主要分析技术	第18-21页
·PECVD 法	第18-19页
·主要分析技术	第19-21页
·X 射线衍射(XRD )	第19页
·激光拉曼光谱(Raman)	第19-20页
·扫描电子显微镜(SEM)	第20页
·傅立叶红外光谱仪(FTIR )	第20页
·台阶仪(Surface Profiler )	第20-21页
第三章 衬底材料对非晶硅薄膜性能的影响	第21-28页
·实验过程	第21-25页
·原材料的选取	第21-22页
·PECVD 设备参数	第22-23页
·衬底预处理	第23-24页
·实验步骤	第24-25页
·工艺参数	第25页
·实验结果与分析	第25-27页
·小结	第27-28页
第四章 非晶硅薄膜的制备工艺参数对其性能的影响	第28-48页
·引言	第28页
·硅烷浓度对非晶硅薄膜性能的影响	第28-34页
·衬底温度对非晶硅薄膜性能的影响	第34-39页
·射频功率对非晶硅薄膜性能的影响	第39-43页
·反应气压对非晶硅薄膜性能的影响	第43-48页
第五章 结论	第48-49页
参考文献	第49-52页
攻读学位期间所取得的相关科研成果	第52-53页
致谢	第53页