掺铝氧化锌透明导电膜的制备与性能研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-26页 |
·透明导电氧化物薄膜概述 | 第10-17页 |
·氧化锌的晶体结构 | 第11-12页 |
·ZnO 的导电机理与掺杂 | 第12-13页 |
·AZO 的晶体结构与光电性质 | 第13-15页 |
·AZO 在透明导电膜方面的应用 | 第15-17页 |
·AZO 薄膜的制备方法 | 第17-22页 |
·磁控溅射法 | 第17-18页 |
·脉冲激光沉积法 | 第18-20页 |
·溶胶-凝胶法 | 第20-21页 |
·真空蒸渡法 | 第21-22页 |
·化学气相沉积法 | 第22页 |
·其他制备法 | 第22页 |
·AZO 薄膜要解决的问题 | 第22-23页 |
·问题的提出及本文研究的主要内容 | 第23-26页 |
第二章 薄膜制备的理论基础 | 第26-34页 |
·磁控溅射镀膜原理 | 第26-28页 |
·辉光放电原理 | 第26-27页 |
·磁控溅射的镀膜过程 | 第27-28页 |
·薄膜生长理论 | 第28-34页 |
·薄膜生长模式 | 第28-29页 |
·薄膜生长过程 | 第29-31页 |
·薄膜生长模型 | 第31-34页 |
第三章 薄膜的制备与测试 | 第34-42页 |
·实验装置及主要工艺参数 | 第34-36页 |
·实验材料 | 第36页 |
·玻璃基片的清洗 | 第36-37页 |
·样品性能测试 | 第37-42页 |
·四探针法 | 第37-38页 |
·紫外/可见分光光度计 | 第38页 |
·扫描电子显微镜 | 第38-39页 |
·X 射线衍射分析 | 第39-40页 |
·台阶仪 | 第40-42页 |
第四章 工艺参数对薄膜结构与光电性能的影响 | 第42-70页 |
·衬底温度对 AZO 薄膜结构与光电性能的影响 | 第42-48页 |
·衬底温度对 AZO 薄膜结构与形貌的影响 | 第42-45页 |
·衬底温度对 AZO 薄膜电性能的影响 | 第45-47页 |
·衬底温度对 AZO 薄膜光学性能的影响 | 第47-48页 |
·溅射功率对 AZO 薄膜结构与光电性能的影响 | 第48-56页 |
·溅射功率对 AZO 薄膜结构与形貌的影响 | 第49-53页 |
·溅射功率对 AZO 薄膜电性能的影响 | 第53-55页 |
·溅射功率对 AZO 薄膜光学性能的影响 | 第55-56页 |
·工作压力对 AZO 薄膜结构与光电性能的影响 | 第56-63页 |
·工作压力对 AZO 薄膜结构与形貌的影响 | 第56-60页 |
·工作压力对 AZO 薄膜电性能的影响 | 第60-61页 |
·工作压力对 AZO 薄膜光学性能的影响 | 第61-63页 |
·镀膜时间对 AZO 薄膜结构与光电性能的影响 | 第63-70页 |
·镀膜时间对 AZO 薄膜结构与形貌的影响 | 第63-66页 |
·镀膜时间对 AZO 薄膜电性能的影响 | 第66-67页 |
·镀膜时间对 AZO 薄膜光学性能的影响 | 第67-70页 |
结论 | 第70-72页 |
参考文献 | 第72-78页 |
攻读硕士学位期间发表的论文 | 第78-80页 |
致谢 | 第80页 |