半导体晶圆制造系统的瓶颈管理及调度优化研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 研究背景及研究意义 | 第9页 |
| 1.2 文献综述 | 第9-12页 |
| 1.3 研究内容及逻辑思路 | 第12-13页 |
| 1.4 技术路线 | 第13-15页 |
| 第二章 系统概述与相关基础理论 | 第15-26页 |
| 2.1 半导体晶圆制造系统概述 | 第15-18页 |
| 2.2 复杂网络理论 | 第18-21页 |
| 2.3 支持向量机理论 | 第21-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 半导体晶圆制造系统瓶颈识别 | 第26-34页 |
| 3.1 瓶颈的定义与特征 | 第26-27页 |
| 3.2 现存瓶颈的识别方法 | 第27页 |
| 3.3 设备固有瓶颈度分析 | 第27-28页 |
| 3.4 基于复杂网络的瓶颈度分析 | 第28-32页 |
| 3.5 基于综合瓶颈度的瓶颈识别 | 第32-33页 |
| 3.6 本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 半导体晶圆制造系统瓶颈漂移预测 | 第34-43页 |
| 4.1 瓶颈漂移现象 | 第34-38页 |
| 4.2 瓶颈漂移预测 | 第38-39页 |
| 4.3 模型参数优化 | 第39-42页 |
| 4.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第五章 半导体晶圆制造系统调度优化 | 第43-51页 |
| 5.1 综合投料控制策略 | 第43-45页 |
| 5.2 基于瓶颈设备的分层调度 | 第45-50页 |
| 5.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 第六章 仿真实验及结果分析 | 第51-64页 |
| 6.1 仿真模型介绍 | 第51-53页 |
| 6.2 仿真实验及结果 | 第53-63页 |
| 6.3 本章小结 | 第63-64页 |
| 第七章 结论与展望 | 第64-66页 |
| 7.1 全文总结 | 第64页 |
| 7.2 展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
