首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--一般性问题论文--材料论文--一般性问题论文

磁控溅射制备透明导电氧化物薄膜一些研究

目录第1-7页
摘要第7-8页
Abstract第8-9页
第一章 绪论第9-15页
   ·透明导电薄膜的应用第9-11页
   ·透明导电薄膜的种类及特点第11-13页
   ·本文的研究内容第13-15页
第二章 制备及测试方法第15-21页
   ·磁控溅射第15-17页
   ·结构和形貌表征技术-X射线衍射(XRD)第17-18页
   ·薄膜方阻及电阻率的测试第18-20页
   ·扫描电子显微镜(SEM)第20页
   ·其他测试技术第20-21页
第三章 光谱分析技术第21-25页
   ·薄膜材料的光学透射谱第21页
   ·包络法第21-23页
   ·单振子模型第23-25页
第四章 不同氧分压对ZnO薄膜的影响第25-33页
   ·引言第25页
   ·实验过程第25页
   ·实验结果和讨论第25-32页
   ·结论第32-33页
第五章 掺铝对ZnO薄膜的影响第33-41页
   ·引言第33页
   ·实验第33-34页
   ·结果与分析第34-39页
   ·结果和讨论第39-41页
第六章 数值模拟氧含量对LaNiO_3薄膜导电性能的影响第41-48页
   ·引言第41页
   ·实验第41-42页
   ·热处理实验结果第42-43页
   ·数值模拟第43-46页
   ·结论第46-48页
总结第48-49页
参考文献第49-52页
硕士期间发表的文章第52-53页
致谢第53页

论文共53页,点击 下载论文
上一篇:西安DS公司并购行为风险控制研究
下一篇:掺铥铝酸钇晶体Tm:YAP制备与性能研究